電子級超純水要求系統特點：
　　●系統采用全自動控制（同時亦可采用手動控制），系統運行時可設定自動反洗、再生程序；
　　●一級反滲透和二級反滲透設有回流管道，反滲透設備設有化學清洗裝置和消毒裝置；
　　●在一級反滲透和二級反滲透間設有PH調節裝置，以保證設備產水電導率符合藥典要求；
　　●二級反滲透膜采用帶正電荷的抗污染反滲透膜，以保證反滲透設備能*穩定運行；
　　●一級反滲透管路采用304不銹鋼材料，二級反滲透采用316L不銹鋼材料；
　　●在*級反滲透和第二級反滲透設備中均裝有在線電導檢測儀表，產水電導率可隨時觀看；
　　●一級反滲透前設有低壓保護開關，二級反滲透前設有低壓保護和高壓保護開關；
　　●一級、二級反滲透水回收率可調整，一級反滲透回收率60％－65％，二級反滲透回收率70％；
　　●前處理裝置均采用*件；前處理設備間管路采用UPVC管材。
　　●純化水儲水罐帶呼吸過濾器，輸送管道裝有紫外線殺菌器和微孔過濾器，保證純水符合衛生要求;

電子級超純水要求中光電行業水質標準：
我公司電子級超純水設備出水水質*符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
電子級超純水要求中光電行業對水質的要求：
新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

電子級超純水要求應用場合：
☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏；
☆高品質顯像管、螢光粉生產；
☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗；
☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料；
☆實驗室和中試車間；
☆汽車、家電表面拋光處理；
☆光電產品；
☆其他高科技精微產品；

典型電子級超純要求水制備工藝： ☆預處理----反滲透----水箱----陽床----陰床----混合床----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----精制混床----微孔膜過濾器----用水對象
☆預處理----一級反滲透----pH調節裝置----中間水箱----二級反滲透----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----微孔膜過濾器----用水對象
☆預處理----二級反滲透----中間水箱----水泵----EDI裝置----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----微孔膜過濾器----用水對象 新工藝
☆預處理----二級反滲透----中間水箱----水泵----EDI裝置----純水箱----純水泵----紫外線殺菌器----拋光混床----TOC分解器----微孔膜過濾器----用水對象 工藝

典型電子級超純要求部分產品規格：