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合肥日新高溫技術有限公司
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CVD（Z）系列真空氣氛管式爐專門設計用于中溫CVD工藝。如ZnO納米結構的可控生長、氮化硅渡膜、陶瓷基片導電率測試、陶瓷電容器（MLCC）氣氛燒結等等。 窯爐采用氧化鋁纖維制品隔熱、保溫；加熱元件采用進口KTL電阻絲；選用99剛玉管作為爐膛；系統可預抽真空，氣體采用質量流量計控制。
■設備型號：CVD(Z)-06/60/2
■zui高溫度： 1300℃
■工作溫度： RT～1250℃
■工作區域（雙溫區）：Φ60（外徑)×300；Φ60（外徑)×300
■爐管實際尺寸：Φ60（外徑）×1450mm （99 剛玉管）
■爐膛材料： 氧化鋁、高鋁纖維制品
■加熱元件：FEC 陶瓷加熱板，進口瑞典Kanthal 電阻絲
■控溫點數：2 個，2 只S 分度熱偶
■氣路系統：3 臺質量流量計+顯示儀（七星華創）及配套管路、混合罐（整體式結構）
■真空系統：機械泵及配套管路閥門，真空度≤10Pa（整體式結構）
■建議升溫速率：3℃～5℃/min
■控溫精度：±1℃
■溫控儀表：2 只，日本進口40 段程序控溫儀表，PID 參數自整定，超溫、
斷偶報警等保護。
■zui大加熱功率：6Kw
■空爐保溫功率：2Kw
■外觀處理： 主體電腦色或用戶自定
■外形尺寸： 約1500mm×1650mm×700mm（L×H×D）
■供電電源：三相電源，50HZ ，380V±10%；10KW
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