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上海京度電子科技有限公司
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E-Scan系列電子級硫酸濃度在線分析儀采用臨界角檢測原理，檢測不受物料的顏色，渾濁度，氣泡，固體顆粒等雜質的影響、具備高精度的自動溫度補償功能。
電子級硫酸又稱高純硫酸、超純硫酸，屬于超凈高純試劑，是一種微電子技術發展過程中*的關鍵基礎化學試劑，主要用于硅晶片的清洗和蝕刻，可有效除去晶片上的雜質顆粒、無機殘留物和碳沉積物。電子級硫酸的純度和潔凈度對電子元件的成品率、電性能及可靠性有著重要的影響。
從純度上來講，電子級和分析純的化學品，相對于普通化學品，其純度都很高，雜質含量少，但是兩個屬于不同的標準體系，對雜質的關注點不一樣。 電子級是對用于電子元器件生產過程中使用的化學品的一種泛指，相對于一般工業，其純度要求更高，尤其是平板顯示行業或者半導體行業。其更每種化學品更中的有害雜質含量，金屬離子，固體顆粒等等。用于半導體工業的電子級化學品純度一般比分析純的化學試劑更高，可參考SEMI相關化學品的標準。對于芯片生產過程來說，一般情況下，純度會在99.999%數量級，12寸芯片生產可能會用到99.999999999%純度的化學品。 分析純是化學試劑的一個純度標準，這個系列里包括 優級純，分析純，化學純和實驗純。其中分析純干擾雜質很少，適用于工業分析及化學實驗，比如用于滴定之類的分析。
在復雜的芯片生產工藝中，硫酸也是*的試劑。
硅圓片在加工過程中，常常會被不同的雜質所沾污，硅圓片上不溶性固體顆粒或金屬離子可能在微細電路之間導電，使之短路。鈉、鈣等堿金屬雜質也會融進氧化膜中，導致耐絕緣電壓下降。硼、磷、砷等雜質離子會影響擴散劑的擴散效果，塵埃顆粒會造成光刻缺陷，氧化層不平整，影響制版質量和等離子蝕刻工藝。
為了獲得高質量集成電路芯片，必須除去各種沾污物，這就需要使用非常純凈的化學試劑來清洗硅圓片。硫酸和過氧化氫可以按比例組成有強氧化性的SPM清洗液，將有機物氧化成CO2和H2O。它還可用于光刻過程中的濕法蝕刻去膠，借助于化學反應從硅圓片的表面除去固體物質，導致固體表面全部或局部溶解。
硫酸在此處的作用是消除晶圓上的各種雜質，那么其本身就肯定不能做為污染源再引入雜質，因此該工藝對于硫酸本身純凈度的要求也相當高。1975年，美國的半導體設備與材料協會（Semiconductor Equipment and Materials International，SEMI）首先為微電子工業配套的電子級化學品制定了統一標準（SEMI標準）；1978年，德國的默克公司也制定了MOS標準。兩種標準對電子級化學品中金屬雜質和微粒（塵埃）的要求各有側重，分別適用于不同級別IC的制作要求。
E-Scan系列電子級硫酸濃度在線分析儀采用臨界角檢測原理，檢測不受物料的顏色，渾濁度，氣泡，固體顆粒等雜質的影響、具備高精度的自動溫度補償功能。采用優秀的分體式體式，全屏蔽抗干擾設計，光電信號直接轉換處理。摒棄一體式不耐振動和高溫的影響的缺點，保障了在線測量的精度及延長儀器使用壽命。內置光纖光路傳導系統，擁有優秀的抗震性能和高穩定性、內置溫度傳感器和干燥劑有效監測糖度儀的運行狀態。
E-Scan系列電子級硫酸濃度在線分析儀可以安裝在不同管徑的管道或者罐體容器壁上，進行濃度監測和控制，可以直接顯示質量*（Percent)、固形物含量(S.G.)、密度(T.T.A)或用戶自定義的單位，現場顯示并可以模擬信號（RS232)遠傳至電腦進行即時數據存儲、打印、追溯等功能；通過4-20ma信號遠傳至plc/dcs /變頻器進行監控或控制。
E-Scan系列電子級硫酸在線分析儀擁有以下特征：
●316ss材質的傳感器使其滿足化工、半導體行業的要求并且耐溫高達150℃；
●免維護、無耗材、無漂移、自診斷功能，智能報警信號輸出功能；
●防護等級：NEMA4X(IP67）；
●自動溫度補償（軟件擁有豐富的產品線性數據庫和溫度補償數據庫）；
●多組4-20maA模擬信號及數字信號輸出（隔離，非隔離可選）；
●3648高分辨率的CCD；
●多種報警信息輸出顯示（高低/高高/低低/偏差）；
●可循環的干燥劑，無耗材，免維護；
●光源為589nmled燈，壽命長達100000小時；
●安裝適配器標準:PTFE,Tantalum、Alloy20、teflon；
●高精度，高品質“美國制造”
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