一.全程水處理器*適用范圍
1.全程水處理器主要適用于循環水、自來水、地表水、地下水、海水、游泳池用水、熱水的水質處理及控制;
2.全程水處理器適用于石油、輪胎、橡膠、化工、鋼鐵、發電、*空調、采暖、地源熱泵、及其它工礦企業的循環水、源水及污水處理等。
二. 全程水處理器*產品功能
全程水處理器是針對各種循環水系統中普遍存在的四大問題:腐蝕、結垢、菌藻、水質而惡化研制的綜合處理器,由單臺設備代替了需要多臺設備才能完成的處理過程,從而取代了傳統的處理方式。具有對水質綜合優化處理,防垢、防腐、殺菌、滅藻、超凈過濾功能。結合紫外線的強力殺菌、滅藻、消毒功能,彌補了射頻技術在高溫、高濕、水質惡劣等環境下殺菌滅藻的不足之處。
三.產品特點
1.全程水處理器結合超聲波技術、紫外線殺菌消毒功能。設備綜合性能遠高于一般的“射頻水處理器"、“電子水處理器"及“磁水處理器"等。
2.全程水處理器各發射極利用差轉屏蔽效應及多點陣列組合。相互之間無干擾,針對性強。
3.全程水處理器可實現全自動排污。并且可以在系統正常運行狀態下進行排污和反洗,不影響系統的正常運行,有效控制濃縮比,降低運行費用,無需人工操作。
4.全程水處理器可配備水質綜合檢測儀,對水質進行連續監測、數字顯示。
四.技術參數
1.處理效果
①.緩蝕率:≤0.092mm/a,管道的銹蝕速度降低至原來的1/10;
②.阻垢、除垢率:≥95%;
③.殺菌率:≥95%;
④.滅藻率:≥95%;
⑤.過濾精度:可根據用戶需求選擇。
2.進水要求
①.總硬度(以CaCO3計):≤800mg/L;
②.水溫:≤50℃(特殊情況可定制);
③.流速:>1m/s,≤2.8m/s。
3.工作環境參數
①.工作壓力:≤1.6MPa
②.系統壓力:≥0.3MPa;
③.工作電壓:220v±10%/50Hz;
④.工作溫度:-25℃-95℃;
⑤.工作環境溫度:-25℃-50℃;
⑥.相對濕度:<95%(溫度25℃時);
⑦.輸出功率:50-1500w。
五.工作原理
1.防垢除垢由主機產生電磁場和超聲波作用于水系統管路上,使管道內水分子產生共振,把氫鍵締合的水分子團變成單個的極性,改變了水的活化性,這些極微小的水分子可以滲透、包圍、溶解、去除系統中的老垢提高了水分子對鈣鎂離子、碳酸根離子等成垢組分的水合能力,起到阻止水垢形成的作用。同時,在電磁場和超聲波的作用下,使原有的水垢結晶逐漸變得松軟、脫落、溶解,從而達到除垢之目的。
2.防腐防銹氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕是水系統管道及設備腐蝕和生銹的主要原因,而在電磁場和超聲波的作用下,水垢得以控制和去除,溶解氧與水分子結合不易析出,從而抑制氧化腐蝕和垢下原電池腐蝕的發生起到良好的防腐阻銹的作用。
3.殺菌滅藻電磁場在工作時產生微電子流使細菌、藻類賴以生存的環境被破壞,并且溶解氧在電磁場和超聲波的作用下形成一些如O3、H2O2等對細菌、藻類具*殺傷力的物質,起到殺菌滅藻的作用。
其一:地球上的生物一般只適應地區表面的電場強度(130V/m),該處理器改變電場強度,改變或影響細菌的生理代謝,如基因表達程序、酶活性等,zui后導致細菌死亡。
其二:細胞膜有許多對外的離子通道,離子通道的調節直接影響細胞的功能和生命。處理器產生的外電場破壞了細胞膜上的離子通道,改變了調節細胞功能的內控電流,影響細菌的生命。同時形成強電場產生的高速運動的電子將細胞致死,達到殺菌的目的。
其三:電場處理水過程中,溶解氧得到活化,超氧陰離子自由基、羥基自由基、過氧化氫、單線態氧等活性氧。活性氧對微生物機體產生作用,造成有機體衰老,直至死亡。
其四:對高溫、高濕及水質惡劣的使用環境,對菌藻滋生等要求嚴格但又不能加藥處理時,如跟循環水直接接觸的輪胎等行業;增加“紫外線裝置",殺菌滅藻效果十分理想。在普通“全程水處理器"的設備本體上增加紫外殺菌、消毒裝置,實現了電磁場、超聲波和紫外線三種技術處理效果的疊加。
4.超凈過濾
其一:將系統監測的結果輸入到控制系統,根據已經設定的電導率、TDS實現智能化、科學化排污;
其二:多濾筒結構;根據處理數量,濾筒數量為3-12個,實現在線反沖洗(過濾、反沖及排污同時進行),可實現系統的連續運行,不需停機。
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