伯東公司 Pfeiffer 普發渦輪分子泵組脈沖激光沉積系統應用
脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition, PLD），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上, 得到沉淀或者薄膜的一種手段. PLD 系統由多個真空腔體組成，整個系統需要超高真空且不能引入任何雜質，對環境的清潔度要求較高，必須配備無油干泵和分子泵抽真空。由于各個輔助腔體體積較小, 因此特別適合使用 pfeiffer Hicube 系列分子泵組. 伯東公司銷售維修的 Pfeiffer 分子泵組因其結構緊湊體積小，清潔無油（前級泵配備干泵）、抽速快、極限真空度高達10-11mbar等優點一經上市好評如潮。
客戶案例一：南京某大學物理學院
1.系統功能：主要用于Mn氧化物膜,陶瓷氧化膜或金屬膜的制備
2.真空度要求: 真空度< 1x10-8 mbar
3.樣品尺寸：大約1cm2
4.基板加熱溫度：700至1000度
該PLD系統 Pfeiffer 分子泵配置:
1.pfeiffer 普發經濟型分子泵組 HiCube 80 Eco
2.Pfeiffer 普發渦輪分子泵 HiPace 700
客戶案例二：上海某研究所 脈沖激光沉積系統基本規格:
1.系統功能：主要用于制備有機自旋閥器件，還可用于制備有機發光二極管、太陽能電池等器件
2.真空度要求: 真空度<3x10-10 mbar
3.樣品尺寸：直徑2’
4.基板加熱溫度：1000度
5.鍍膜方式：Effusion Cell/Plasma Cell
6.膜生長控制模式：鍍率/厚度/時間 控制模式
該PLD系統 Pfeiffer 分子泵配置:
1.分子泵組 pfeiffer HiCube 80*7
2.渦輪分子泵 pfeiffer Hipace 300*2
