氣流粉碎機是通過氣流粉碎物料的干法制備超細粉的設備，所用的氣體可以是空氣、過
熱蒸汽或惰性氣體。目前，制備顆粒的方法主要有兩種：一是通過粉碎從大到小制備顆粒，
另—種是通過合成從小別大制備顆粒。通過粉碎方法制備的顆粒，目前zui細約為0.1µm，合成的方法能夠制備幾納米到幾十微米范圍的顆粒。氣流粉碎機是通過粉碎的方法制備超細
顆粒的，它能夠制備亞微米到幾十微米范圍內的顆粒，主要制備0.5—20µm范圍內的超細
顆粒材料，它是目前被廣泛應用的干法制備超細粉的設備。與其他粉碎設備相比，它具有如
下特點：
①粒度細，zui細可以達到0.2µm，一般為0.5—20µm，并可以調節；
②粒度分布窄．可以滿足窄粒區分布產品粉的要求，如磨料、激光打印粉、復印粉、釹鐵硼磁粉和鋰電池粉等；
③純度高；
④可以粉碎莫氏硬度為1—10的材料；
⑤加工溫度低（小于氣流溫度）．材料破碎時的應變率高，可粉碎低熔點、熱敏性和生物材料等材料，
⑥能耗較大，生產成本較高。
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