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Angstrom Sciences濺射陰極及靶材

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產品簡介

美國安斯超科學公司(Angstrom Sciences，Inc)成立于1988年, 是一家專業從事物理氣相沉積磁控濺射陰極及濺射靶材的高科技專業公司。的磁場設計和*的水冷技術使其產品倍受歡迎。產品主要應用真空鍍膜的各種領域：航天航空，汽車，微電子，光源，光學，裝飾，顯示器，數據存儲等。

詳細介紹

Angstrom Sciences濺射陰極及靶材

美國安斯超科學公司（Angstrom Sciences，Inc）成立于1988年, 是一家專業從事物理氣相沉積磁控濺射陰極及濺射靶材的高科技專業公司。的磁場設計和*的水冷技術使其產品倍受歡迎。產品主要應用真空鍍膜的各種領域：航天航空，汽車，微電子，光源，光學，裝飾，顯示器，數據存儲等。

安斯超公司對磁控濺射靶陰極的磁體外形和冷卻循環結構進行了科學合理地優化設計，并且選取更強的磁體（比稀土磁體強30％），從而使安斯超的靶陰極比常規的靶陰有更為的性能。

核心技術及特點：

1. 特殊設計的磁體結構，使得磁場線跨度范圍更寬，從而提高靶材的利用率和膜層的均勻性

2. 湍流冷卻技術，使得水流能夠更平緩的進入陰極，從而提高冷卻效果

3. 特殊設計的耙材固定結構，使得耙材更換起來更簡單，降低停工期

4. *的磁體材料 NdFeB，他的強度比其他的稀土磁體要強30%

優勢

> *的靶材利用率，zui高可以達到50%，從而降低靶材成本

> *的產品均勻性，zui高可以達到±3%

> 可以在更低的真空以及更高的功率下運行：zui低壓力可以達到10^-4TOR

> 我們的直接水冷結構可以提高其功率密度達到250Watt s/in²

> 提高沉積速率

> 多樣的復合設計

> 高標準高效率

濺射靶陰極翻新

安斯超提供舊的靶陰極翻新服務，使您的靶陰有安斯超*的技術，滿足您的工藝要求。特別有利于大面積沉積鍍膜行業。

我們可以根據客戶現有陰極的狀況，分析現有的問題，提供切實可行的解決辦法，使得他們現有的陰極也會擁有Angstrom陰極的特點，更高的利用率，更好的均勻性，更高的功率密度等特點。

我們一直致力于為世界上企業提供全新陰極及陰極翻新的工作。他們是：BOCCT，IVT，LEYBOLD，Materials Science，MRC，Perkin Elmer，Sloan，Ulvac,VAC-TEK，Varian，Veeco，Denton Vacuum，in，Fairchild Semiconductor等。

圓形磁控濺射陰極

關鍵詞：顯示器

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