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斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀-產(chǎn)品詳情斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀簡(jiǎn)介具采用的密封充氣紫外光學(xué)系統(tǒng)和OPI水平觀測(cè)等離子光學(xué)接口完成消除水平觀測(cè)時(shí)尾焰的影響、全譜CCD技術(shù)和多視角等離子體定位等新技術(shù)

詳細(xì)介紹

斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀 - 產(chǎn)品詳情

斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀簡(jiǎn)介


具采用的密封充氣紫外光學(xué)系統(tǒng)和OPI水平觀測(cè)等離子光學(xué)接口完成消除水平觀測(cè)時(shí)尾焰的影響、全譜CCD技術(shù)和多視角等離子體定位等新技術(shù),有高靈敏度、高精度以及波長范圍寬(130nm-770nm) 等特性,在ICP-OES 領(lǐng)域開拓了全新的應(yīng)用,可分析包括ppm級(jí)鹵素在內(nèi)的73個(gè)金屬和非金屬元素。

    
斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀主要特點(diǎn)

    

1.一維色散+32個(gè)CCD檢測(cè)器設(shè)計(jì),檢測(cè)器無需超低溫冷卻,無需氬氣吹掃保護(hù)

2.全波長覆蓋,為130-770nm的波長范圍,可以分析ppm級(jí)鹵素
3.密閉充氬循環(huán)光路系統(tǒng),檢測(cè)190nm以下譜線,無需氣體吹掃
4.3秒實(shí)現(xiàn)真正全譜數(shù)據(jù)采集,分析速度
5.所有氣體流量采用質(zhì)量流量計(jì)計(jì)算機(jī)控制,矩管位置3維步進(jìn)馬達(dá)計(jì)算機(jī)控制自動(dòng)化程度高
    
斯派克ARCOS型全譜直讀等離子體發(fā)射光譜儀技術(shù)參數(shù):
    光學(xué)系統(tǒng)
    焦距:0.75米
    光譜范圍:130nm – 770nm
    光柵:三光柵
     - 3600線/毫米 (130nm – 175nm)
     - 3600線/毫米 (175nm – 340nm)
     - 1800線/毫米 (340nm – 770nm)
    光譜級(jí)次:全波長一級(jí)光譜
    32個(gè)線性CCD連續(xù) 排列在羅蘭圓上
    每個(gè)CCD的像素?cái)?shù):3648
    分辨率:8.5pm (恒定不變)
    光室密閉充氬,無需吹掃(驅(qū)氣)和抽真空
    光室恒溫: 15℃ ( 0.1 ℃)
    - 開機(jī)即可使用
    - 測(cè)量130nm – 190nm波段方便快捷
    信號(hào)檢測(cè)與讀出系統(tǒng)
    32個(gè)線性陣列CCD
     工作溫度:15 ℃ ( 0.1 ℃),無須制冷,
     無須吹掃保護(hù)性氣流
     超高速數(shù)據(jù)讀取:雙CPU,平行數(shù)據(jù)讀出
     *的動(dòng)態(tài)范圍:108
    最短積分時(shí)間:0.1ms
    可進(jìn)行瞬時(shí)信號(hào)的測(cè)量:與LC、HPLC等聯(lián)機(jī)成為真正可能
     決無“溢出"現(xiàn)象
     長壽命
    等 離 子 體
    自激式固態(tài)發(fā)生器和電源
     頻率:27.12MHz
     功率:750 - 1700W
     功率穩(wěn)定性:<0.1%
     風(fēng)冷
     全自動(dòng)控制,功率連續(xù)可調(diào)
     耦合效率高
    等離子體觀測(cè)方式
    1、等離子體水平放置,軸向觀測(cè)
    可有效提高儀器的靈敏度10倍,尤其對(duì)于激發(fā)電位較低的元素,如:Zn、K、Na
    的OPI技術(shù)
     冷錐冷卻方式:水冷,冷卻效率高
     計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制冷錐與等離子體
     的相對(duì)位置
     氬氣反吹,在保證遠(yuǎn)紫外波段的光
     效率前提下,冷錐和光路(包括透
     鏡)無污染的可能
    2、等離子體垂直放置,徑向觀測(cè)
    等離子體垂直放置優(yōu)點(diǎn):
     不會(huì)燒炬管
     減少基體干擾
     減少進(jìn)樣系統(tǒng)沖洗時(shí)間
     實(shí)驗(yàn)成本降低
     分析速度快
    缺點(diǎn):
    對(duì)于激發(fā)電位較低的元素,如:Zn、K、Na
    等靈敏度不夠
    針對(duì)不同用戶的使用習(xí)慣和測(cè)試需求,可提供
     SPECTRO ARCOS SOP(垂直炬管)
     SPECTRO ARCOS EOP(水平炬管)
    進(jìn)樣系統(tǒng)
    四通道蠕動(dòng)泵
    泵速:0 ~70 RPM
     連續(xù)可調(diào)
     實(shí)時(shí)在線內(nèi)標(biāo)加入
     在線稀釋
     耐強(qiáng)酸、堿等腐蝕性液體
     隨機(jī)附帶大容量、自動(dòng)報(bào)
     警的廢液回收器
    軟 件
    多語言(包含中文)視窗化操作軟件及手冊(cè)
     一鍵導(dǎo)航式操作流程,清晰、簡(jiǎn)便,易學(xué)、易用
     全譜譜圖自動(dòng)存儲(chǔ),記錄樣品“指紋",可進(jìn)行“追憶"分析,無須保留樣品和費(fèi)時(shí)、
     費(fèi)力的再次測(cè)量
     實(shí)時(shí)內(nèi)標(biāo)測(cè)量
     定性、半定量全譜測(cè)試,可鑒別未知樣品,進(jìn)行“盲樣"分析
     可對(duì)譜圖進(jìn)行疊加、差減,精確消除溶劑、器皿等所引入的空白與污染誤差
     內(nèi)置NIST標(biāo)準(zhǔn)譜庫,可自動(dòng)進(jìn)行譜線干擾識(shí)別和校正
     智能邏輯校正( ICAL)系統(tǒng),可持續(xù)監(jiān)控儀器的工作狀況并自動(dòng)校準(zhǔn),
     確保儀器在狀態(tài)下運(yùn)行
     的智能背景校準(zhǔn)(Smart Background Correction),扣除真實(shí)背景,消除誤
     差,分析結(jié)果準(zhǔn)確
    扣除背景的方式靈活多樣
    同時(shí)、實(shí)時(shí)扣除背景
    單點(diǎn)或雙點(diǎn)
    背景曲線擬合
    的智能背景扣除(Smart Background Correction)
     背景扣除真實(shí)可靠、簡(jiǎn)單實(shí)用
    可在分析完成后更改背景扣除點(diǎn)或背景扣除方式,無須重新分析樣品,減
     輕操作人員的工作量

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