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上海貝丁漢工業自動化設備有限公司


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微位移測量激光干涉儀ZLM800

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更新時間：2018-02-13 09:12:40瀏覽次數：555次

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所在地區：上海上海市

聯系人：李經理

產品簡介

ZLM800微位移測量激光干涉儀--雙頻激光干涉儀，主要用于微位移部件的測量，角度變化量的監測，移動平臺運動情況的檢測，及光刻機幾何量的測量，數控機床幾何量的測量，Z多實現六軸聯動。

詳細介紹

產品功能
    ZLM800微位移測量激光干涉儀——雙頻激光干涉儀，主要用于微位移部件的測量、角度變化量的監測、移動平臺運動情況的檢測、光刻機幾何量的測量、數控機床幾何量的測量等，zui多可實現六軸聯動。也可通過位移+偏擺+俯仰的三角關系測量檢測物體的振動變化。

性能優勢 技術參數

型號：ZLM800
使用高性能數據處理器AE950 PCI
He-Ne激光平均波長：
632.8 nm
激光穩頻精度：
一小時2x10-9（±0.002ppm）
壽命內2x10-8（±0.02ppm）
系統精度（0-40℃時）：
±0.4ppm
光束直徑：
6mm （可選3.2mm）
激光管突發zui大輸出功率：
1mW （激光等級2）
每束光可測量的軸數：
zui多6個
線性測量距離：
40m，可擴展為120m
角度測量范圍：
± 15°，20m軸線范圍
平面度測量范圍：
20m行程
直線度測量范圍：
± 5mm，2m或10m行程，
選用角度干涉儀可測30m行程
垂直度測量范圍：
± 5mm，2m或10m行程，
30m行程需用角度干涉儀
zui大速度：
4m/s，可選16m/s
80rad/s，角速度
zui大加速：
無限制
zui高采樣頻率：
內部1MHz，外部40MHz
預熱時間：
10分鐘
精度/非線性：
±0.3nm （角隅反射鏡）
±0.1nm （平面反射鏡）
距離測量分辨率：
0.6nm （角隅反射鏡）
0.3nm （平面反射鏡）
0.1nm 可選
距離測量精度：
（20°±0.5°） 使用AUK時
（20°±0.5°） 真空中時
 
±0.4ppm （μ/m）
±0.08 （±0.02）ppm （μ/m）
線性度測量分辨率：
0.6nm （角隅反射鏡）
0.3nm （平面反射鏡）
0.1nm 可選
線性度測量精度：
（20°±0.5°） 使用AUK時
（20°±0.5°） 真空中時
 
±0.4ppm （μ/m）
±0.08 （±0.02）ppm （μ/m）
速度測量精度：
±0.5ppm實測值
角度測量分辨率：
0.015μrad （3x10-3 弧秒）
角度測量精度：
±0.1ppm實測值
平面度測量分辨率：
0.015μrad （3x10-3 弧秒）
平面度測量精度：
±0.2%實測值
±0.05 弧度/米運行距離
直線度測量分辨率：
36nm，10m行程
7.25nm，2m行程
直線度測量精度：
±0.5%實測值，2m行程
± 2.5%實測值，10m行程
垂直度測量分辨率：
36nm，10m行程
7.25nm，2m行程
垂直度測量精度：
±0.5%實測值2m，± 0.5弧秒*
±2.5%實測值10m，± 0.5弧秒*
數據接口：
積分信號
32 Bit （實時時間）
Dt » 20 ns
數據分析標準：
ISO230/VDI3441/VDI2617/NMTBA
工作環境：
溫度：15°C-30°C
濕度：<90%無冷凝
儲存環境：
溫度：10°C-40°C
濕度：<95%無冷凝

應用案例

l          真正意義上的雙頻激光干涉儀，頻差為640MHz。請用戶注意“激光干涉儀”和“雙頻激光干涉儀”概念的區別，*雙頻激光干涉儀精度更好、性能更穩定。世界范圍內只有兩家雙頻激光干涉儀的生產商，德國耶拿爾公司是其中的一家。
l          全部部件皆在德國生產制造，絕非為了降低成本而在第三方國家進行部件加工。光學組件全部采用蔡司光學鏡，是世界上*一家將*的蔡司光學鏡用于激光干涉儀領域的產品制造商。
l           激光器壽命更長，可達20000小時，激光穩頻精度高，一小時內為±0.002ppm，在產品壽命內可達±0.02ppm。
l          干涉鏡采用差分干涉原理，系統精度更高，可達±0.4ppm。
l          計算機輔助光路調整，調整結果更準確。
l          采樣頻率更快，zui高達1MHz，可在0.001Hz-1MHz之間進行選擇。
l          被測物體zui大速度16m/s（可選）；采用高精度AE950 PCI數據處理器，分辨率達0.6nm（當移動速度為1m/s時，線性分辨率更可高達為0.1nm）。
l          無加速度限制；當光線微弱時，性能也十分穩定。
l          信號延時<200ns；對電磁干擾不敏感。
l          對于多軸聯動的復雜光路測量和微位移測量，ZLM800型是理想的選擇。


 

以下是為*某項目設計的ZLM800雙頻激光干涉儀兩個應用案例。在*個案例中，用兩個3軸角度干涉儀分別監視兩個擺鏡的擺動，實時測試兩個擺鏡對應量（俯仰、偏擺和位移）的差異情況。在第二個案例中，用一個3軸角度干涉儀來測試擺鏡的鏡面擺動情況，2個單軸位移干涉儀檢測一個兩軸位移平臺的運動情況。


 
下述案例是為國內某研究所某項目設計的ZLM800測量系統。用戶預先把被測物體放置在密閉箱中，密閉箱留有觀察窗口。所需要測量的數據是被監視目標Ⅰ、被監視目標Ⅱ的X、Y向的角度變化量，以及這兩個目標在Z方向的相對變化量。



ZLM800部分光路圖示例和部件示意圖




關鍵詞：激光干涉儀
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