電子工業用超純水概述
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
我公司現采用工藝，反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水，zui環保用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水，對環境無破壞性。
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
我公司現采用工藝，反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水，zui環保用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水，對環境無破壞性。
功 能
脫鹽率高，運行壓力低的進口超低卷式復合反滲透膜，產水水質優良，運行成本低廉，使用壽命長。
高效率，低噪音，品質*的進口高壓泵，減少能耗，降低運行噪聲。
進口在線原水及產品水電導儀，PH表可隨時監測水質情況。
進口在線產品水，濃水流量計可隨時監測產品水量及系統回收率。
配置自動循環沖洗系統，以備膜污染后清洗之用。
快沖閥定時沖洗膜表面，降低膜污染速度，延長使用壽命。
降TOC紫外線 裝置可有效降低TOC90%。
膜脫氣裝置可使脫氣后水中溶解的氧DO小于5ppb。
運行參數
單機出力：0.5M3/h-120M3/h
脫鹽率：反滲透系統98%
操作壓力：1Mpa-1.2Mpa
回收率：60%-80%
產品出水電陰率：16-18MΩ.cm
脫鹽率高，運行壓力低的進口超低卷式復合反滲透膜，產水水質優良，運行成本低廉，使用壽命長。
高效率，低噪音，品質*的進口高壓泵，減少能耗，降低運行噪聲。
進口在線原水及產品水電導儀，PH表可隨時監測水質情況。
進口在線產品水，濃水流量計可隨時監測產品水量及系統回收率。
配置自動循環沖洗系統，以備膜污染后清洗之用。
快沖閥定時沖洗膜表面，降低膜污染速度，延長使用壽命。
降TOC紫外線 裝置可有效降低TOC90%。
膜脫氣裝置可使脫氣后水中溶解的氧DO小于5ppb。
運行參數
單機出力：0.5M3/h-120M3/h
脫鹽率：反滲透系統98%
操作壓力：1Mpa-1.2Mpa
回收率：60%-80%
產品出水電陰率：16-18MΩ.cm
環保在線