HI84100二氧化硫滴定分析儀
HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將zui先與二氧化硫發生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發酵，并抑制其他雜菌。
* 基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。
* 性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果。
* 人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
| 測量項目 | | 二氧化硫 |
| 量程 | 0 to 400 ppm of SO2 | |
| 解析度 | | 1 ppm |
| 精度 | | 讀數的5% |
| 測量方法 | | 滴定法 |
| 測量原理 | | 等電位氧化還原滴定法 |
| 取樣量 | | 50 mL |
| ORP 電極 | | HI 3148B |
| 泵流量 | | 0.5 mL/min |
| 攪拌速率 | | 1500 rpm |
| 適用環境 | | 0 to 50°C （32 to 122°F）; max 95% RH無冷凝 |
| 供電方式 | | 220V/60 Hz; 10VA |
| 尺寸重量 | | 208 x 214 x 163 mm；2200 g |
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