離子除臭凈化設(shè)備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，使污染物分子在短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解，以達(dá)到降解污染物的目的的一種環(huán)保設(shè)備。
離子除臭凈化設(shè)備的工藝流程如下
首先廢氣經(jīng)均流板過(guò)濾棉進(jìn)入設(shè)備時(shí)，由設(shè)備高壓穩(wěn)定高頻放電，瞬間產(chǎn)生1.5萬(wàn)伏特至2萬(wàn)伏特高壓，擊穿廢氣。此階段中，長(zhǎng)鏈、多鏈廢氣分子由于鍵能較弱，約束力較小。很容易被擊穿化學(xué)鍵破裂，從而變成小分子化合物，此為階段凈化。
其次，隨廢氣進(jìn)入設(shè)備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂，生成強(qiáng)氧化基團(tuán)羥基、臭氧分子等。這些強(qiáng)氧化基團(tuán)與廢氣分子充分接觸氧化，加快反應(yīng)進(jìn)程。整個(gè)反應(yīng)干凈，能量利用率高，凈化效率非常高。
離子功能段可以激發(fā)污染物能量，促使長(zhǎng)鏈、多鏈污染物分子的分子鍵斷裂重組，使難處理的污染物降解為較易處理的低碳污染物。
主要原理
離子除臭凈化設(shè)備利用特地制造的高能高臭氧氣UV紫外光光柱映射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類(lèi)，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，使呈游離狀況的污染物分子與臭氧氣氧氣化接合成小分子無(wú)害或低害的化合物，如CO2、H2O等。
利用高能高臭氧氣UV紫外光光柱分解空氣中的氧氣分子萌生游離氧氣，即活性氧氣，因游離氧氣所攜正陰電子不平衡所以需與氧氣分子接合，繼續(xù)往前萌生臭氧氣。
UV+O2→O-+O*(活性氧氣)O+O2→O3(臭氧氣)，臭氧氣對(duì)有機(jī)化合物具備很強(qiáng)的氧氣化效用，對(duì)惡臭氣體及其他非常刺激性異味有立桿見(jiàn)影的掃除凈盡效果。
惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)施輸入到本凈化設(shè)施后，凈化設(shè)施使用高能UV紫外光光柱及臭氧氣對(duì)惡臭氣體施行協(xié)同分解氧氣化反響，使惡臭氣體事物其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和碳酸氣，再經(jīng)過(guò)排風(fēng)管道排出室外。
利用高能UV光柱裂解惡臭氣體中球菌的分子鍵，毀傷球菌的核酸(DNA)，再經(jīng)過(guò)臭氧氣施行氧氣化反響，達(dá)到脫臭及殺滅球菌的目標(biāo)。
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