比長儀的概述：
比長儀是以不接觸光學定位方法瞄準被測長度，主要用于測量線紋距離的精密長度測量工具
一般采用測量顯微鏡或光電顯微鏡作為瞄準定位部件，并以精密線紋尺的刻度或光波波長作為已知長度，與被測長度比較而確定量值。主要用于檢定線紋尺，測量分劃板上的線距和物理、天文類照相底片上的光波譜線距離，也可用于測量孔徑。
分類：
按結(jié)構(gòu)布局分為縱向的和橫向的兩類。縱向采用線紋尺作為已知長度，且結(jié)構(gòu)設(shè)計符合阿貝原則，稱為阿貝。測量時,先用測量顯微鏡瞄準被測線條，從讀數(shù)顯微鏡讀得一數(shù)值。然后移動工作臺，再用測量顯微鏡瞄準另一被測線條，從讀數(shù)顯微鏡讀得另一數(shù)值。這兩個數(shù)值之差即是被測兩線條間距離。
橫向的被測長度和已知長度是并列布置的，這種布局可以縮短導軌長度，但要求導軌精度高。采用愛賓斯坦光學系統(tǒng),可以補償結(jié)構(gòu)不符合阿貝原則而產(chǎn)生的測量誤差。以光電顯微鏡代替上述兩種顯微鏡者，稱為光電；采用激光或其他單色光波長作為已知長度者，分別稱為激光和光電光波。阿貝的測量精確度為±1～±1.5微米/200毫米，光電可達到±0.5微米/1000毫米，而光電光波和激光則可達到±0.2微米/1000毫米。
結(jié)構(gòu)特點：
是由刻度盤1、千分表2、上測頭3、90°V型槽支架4、下測頭5、標準桿6、底座等組成。它具有使用方便、測量精度高、速度快、讀數(shù)清楚等優(yōu)點。為了滿足用戶的使用要求，支架采用V型槽式，上下測頭采用平面測頭，這種方法提高了測量精度和準確性，可供廣大用戶試驗檢測用。
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