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HMDS預(yù)處理高溫烘箱

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產(chǎn)品型號(hào)BD/HMDS-6090

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更新時(shí)間：2023-03-17 15:09:02瀏覽次數(shù)：257次

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北京中科博達(dá)儀器科技有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

HMDS預(yù)處理高溫烘箱產(chǎn)品用途:該產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體行業(yè)，HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱HMDS預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性

詳細(xì)介紹

HMDS預(yù)處理高溫烘箱

產(chǎn)品用途:該產(chǎn)品主要用于半導(dǎo)體行業(yè)，HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過(guò)對(duì)烘箱HMDS預(yù)處理過(guò)程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

一、產(chǎn)品規(guī)格：

型號(hào)：BD/HMDS-6090 內(nèi)形尺寸：450×450×450

型號(hào)：BD/HMDS-6210 內(nèi)形尺寸：560×640×600

二、技術(shù)參數(shù)：

1、控溫范圍：RT+10～250℃

2、溫度分辨率：0.1℃

3、溫度波動(dòng)度：±1℃

4、達(dá)到真空度：小于133Pa

5、真空度：100Pa～100000Pa

6、定時(shí)范圍：1～9999min

7、工作室材料：316L

8、樣品架：2塊、3塊

9、真空泵：4L/S

10、電源電壓：220V/50Hz、380V/50Hz三相五線制

11、總功率：3000W、4500W

三、產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、外殼采用冷軋鋼板制造，表面靜電噴塑。內(nèi)膽、樣品機(jī)、連接管路均采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分布在內(nèi)膽外壁四周，內(nèi)膽內(nèi)無(wú)任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、雙層玻璃門(mén)觀察工作室內(nèi)物體一目了然。

2、箱門(mén)閉合松緊能調(diào)節(jié)，整體成型的硅橡膠門(mén)封圈，確保箱內(nèi)高真空度。

3、HMDS氣體密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì)，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無(wú)外漏顧慮。

四、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)操作流程：

1、首先確定烘箱工作溫度；

2、預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_(kāi)真空泵抽真空，待腔內(nèi)真牢度達(dá)到某一高真空度后，開(kāi)始充入氮?dú)猓涞竭_(dá)到某低真空度后，再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^(guò)程，到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后，開(kāi)始保持一段時(shí)間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分;

3、再次開(kāi)始抽真空，充入HMDS氣體，在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后，停止充入HMDS藥液，進(jìn)入保持階段，使硅片充分與HMDS反應(yīng);

4、當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后，再次開(kāi)始抽真空。充入氮?dú)猓瓿烧麄€(gè)作業(yè)過(guò)程。

五、控制系統(tǒng)：

1、7.0英寸維綸彩色觸摸屏，三菱PLC控制器；

2、富士微電腦雙數(shù)顯溫度PID控制器，控溫精確可靠；

六、保護(hù)系統(tǒng)：

1、漏電保護(hù)；

2、超溫保護(hù)；

3、缺液保護(hù)；

七、設(shè)備使用條件：

1、環(huán)境溫度：5℃～＋28℃（24小時(shí)內(nèi)平均溫度≤28℃）

2、環(huán)境濕度：≤85%R.H