中山市二氧化氯發生器設備

產品介紹

    電解法二氧化氯發生器是我消化吸收美技術，執行規準GB/T 20621-2006，同時結合我情和具體特點，在原各種消毒劑發生器的基礎上，在電材料、陽陰間距、電解面積、隔膜材料等方面作了反復的研究測試，精心設計而成。電解發生所產生的以C102為主，混C12、O3、H202等多種強氧化劑，具譜的氧化和殺菌能力，能殺滅水中各種芽孢病毒。經對市場上五大系列十三種消毒劑使用效果的試驗比較證明：C102效果很好，五分鐘內平均殺滅率100％。同時可以氧化水中機物及酚、Fe2+、Mn2+、CN-等物質，且不產生(致癌物質)、氯酚等。再經中預防醫學試驗證明，殺菌能力高于目前各類消毒劑，別在飲用水消毒上，毒理性。因此具的使用價值，達到了目前*水平。

二氧化氯污水處理設備型號

 1﹑技術現狀
    目前已一些二氧化氯（ClO2）混合消毒器設備，但大多數為化學法發生器。這些設備結構簡陋，操作繁瑣，勞動強度及危險性大，設備能不穩定，反應不能控制，原料利用率低。用酸及NaClO2（或NaClO3）溶液作原料，添加和使用麻煩，貯存、購買困難，高。同時NaClO2（或NaClO3）質量沒可能造成二次污染。的化學法發生器原料利用率低，產生的污水量大，家將設備所產生的污水連同消毒qi一起投加到待處理水中，直接影響所處理的水體水質，同時設備使用壽命短，性差。
電解食鹽（NaCl）法二氧化氯（ClO2）混合消毒器，利用食鹽（NaCl）為原料，電解產生消毒劑，原料簡單﹑易得、低且質量，但技術存在以下問題：
①產不穩定，產量在使用過程中難以控制。
②電耗、鹽耗大，產率低。
③關鍵部件（電解隔膜）均采用石棉布或丙綸布，使用壽命短（不過三個月）且需定期清洗，而清洗操作復雜，難以被用戶接受。另外，石棉布或丙綸布結構不穩定，在水中浸泡后很快就會導致孔隙增大，使陽箱、陰箱之間發生通透，降低電解效率﹑增大鹽耗。
④設備總體結構不盡，故障率高，壽命短，嚴重損害用戶利益。
⑤電解液組份不穩定：隨著設備電解，陽室食鹽（NaCl）濃度逐漸下降，不能保持飽和狀態,電解液組份的不穩定直接導致設備產量不穩定。
⑥設備換熱問題沒很好的解決（沒科學的換熱系統），導致設備內溫度過80℃，造成電解膜變性，設備所用UPVC板強度下降并發生變形，致使設備報廢。
 2、我技術取得的突破進展
 針對以上存在的問題，我同關單位合作,經過數次的實驗研究，多次試制和改進，在以下方面取得突破性進展：
 ①研制出不對稱電解膜。該膜在使用過程中，不用清洗和維護，（過三年）﹑﹑電阻低﹑能自動平衡陰﹑陽箱酸堿度，使產效率達到良好，降低電耗﹑鹽耗，降低。
②采用*的泵循環系統，保持電解溶液組份始終處于動態平衡狀態，設備，確保設備的使用效果。
③的工業設計理念，使設備管路系統精煉、設備可操作，使用方便。
④的選材，使設備的性提高、壽命延長。
⑤采用獨的換熱系統及設備過溫保護系統，確保換熱效果保持良好。避免了設備在電解過程中，因產熱而使設備內溫度過80℃，造成電解膜變性，孔徑變大通透性增加，同時，避免了造成設備所用UPVC材料強度下降使設備變形的問題。
⑥針對電解法設備的點自行設計開發了TY-D系列電解法二氧化氯復合消毒劑發生器的陰、陽及中性板，電化學，（過十年）。同時，也開發了TY-D系列可控硅整流電解電源（內容詳見TY-D系列可控硅整流電解電源使用說明），使得TY-D系列電解法二氧化氯復合消毒劑發生器工作更穩定，而且實現了該設備的自動化操作；并可遠程計算機操作或與在線流量計和余氯儀實現自動閉循環控制。

中山市二氧化氯發生器設備

設備安裝條件
1. 設備應安裝在室內,工作環境溫度要15℃以上。
2. 二氧化LV具強腐蝕性,因此,在設備安裝時應避免與其它設備置于同一房間。
3. 設備間應鋪設水泥地面,并沖洗水源和水下水道。
4. 應在消毒間內安狀換扇,保持通風良好。
5. 設備間應壓力水源,壓力為0.2～0.4MPa。
6. 設備間應必要的照明設施及220V,5A-10A單相三孔電源手插座一個。

詳細操作說明
1．把本體設備管道正確連接安裝好。
2.將LV酸鈉水溶液與鹽酸溶液配置于溶液箱內，打開原水進水閥，啟動微電腦控制儀,把溫度設置在40-55度之間（溫度設置本在出前已調整好。具體詳見電器說明書，）
3.打開原水進水閥,打開二氧化LV出藥閥, 關閉鹽酸箱吸真空閥。 同時啟動LV酸鈉和鹽酸計量泵，根據出藥量調動計量泵工作頻率。
4.把微電腦控制儀設置在即可（詳見電器說明書）。
5.關機時應提前一小時關閉計量泵,停止加料,使水射器將設備中的體盡量抽完,以防止滯后所產生的體外溢,停料1小時后關閉原水進水閥。    

設備清洗
     設備主機下部污口,可進行清洗污,清洗時在水射器正常工作狀態下,打開反應室放空閥,關閉反應室空閥,打開反應室反沖洗閥,約半小時即可,然后關閉反應室放空閥,關閉反應室反沖洗閥,打開反應室空閥,關閉原水進水閥。
  注意：正常情況下,應該每月清洗一次。  
注意事項
1.LV酸鈉和鹽酸應分開單獨存放。
2.LV酸鈉應放在干燥、通風、避光處,嚴禁與易燃物品混放,嚴禁擠壓、碰撞,LV酸鈉應符合GB1618-1995工業用LV酸鈉的要求。
3.鹽酸濃度為30%左右,應符合G320-93工業合成鹽酸的要求,嚴禁使用廢酸。
4.應注意經常清洗原料罐下部的沉淀物,防止堵塞計量泵。
附加說明
1．本設備出前均已檢驗合格
2．本體設備可分為：手動型、半自動型、自動型敬請用戶指明或其它要求說明，殊規格要求，可共同研討。經過十來年的開發、，化學法二氧化LV發生器已比較成熟，已成為不同領域對水體消毒、殺菌、氧化等處理過程中設備，已十分。