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根據污水處理的過程這些臭氣產生源主要分為污水處理系統和污泥處理系統。污水處理系統中的臭氣源主要分布在進水頭部、預處理、初級處理及濾池反沖洗液、污泥處理上清液等,曝氣池的攪拌和充氧也會產生部分臭氣。
根據污水處理的過程這些臭氣產生源主要分為污水處理系統和污泥處理系統。污水處理系統中的臭氣源主要分布在進水頭部、預處理、初級處理及濾池反沖洗液、污泥處理上清液等,曝氣池的攪拌和充氧也會產生部分臭氣。污泥處理系統中的臭氣來源主要分布在污泥濃縮、厭氧消化后的污泥脫 水和污泥堆放、外運過程,由于對不穩定污泥進行壓縮、剪切作用,產生蛋白質類生物高聚物,其分解產生大量臭氣。
污水收集、處理設施中的主要臭氣產生源、產生原因及其相對污染程度。污水前處理部分(污水提升泵站、格柵、沉砂池)以及生物反應中的厭氧調節池和污泥處理部分(濃縮池、儲泥池、脫水間等)是除臭的重點;曝氣池負荷低,一般可不考慮除臭措施。
污水廠產生的臭氣可以通過收集用光催化氧化廢氣處理設備進行處理。
光催化氧化是在外界可見光的作用下發生催化作用,光催化氧化反應是半導體及空氣為催化劑,以光為能量,將有機物降解為CO2和H2O。本公司采用的半導體是目前反應效率zui高的納米TiO2光催化劑。在光催化氧化反應中,通過紫外光照射在納米TiO2光催化劑上產生電子空穴對,與表面吸附的水份(H2O)和氧氣(O2)反應生成氧化性很活波的氫氧自由基(OH-)和超氧離子自由基(O2-)。能夠把各種廢臭氣體如醛類、苯類、氨類、胺類、酚類、氮氧化物、硫化物、及其它VOC類有機物在光催化氧化的作用下還原成二氧化碳(CO2)、水(H2O)以及其它無毒無害物質,由于在光催化氧化反應過程中無任何添加劑,所以不會產生二次污染。
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