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HP2氦氣純化器科捷氣相色譜配套氣體純化器操作簡便，輸出流量穩(wěn)定，可取代傳統(tǒng)的高壓鋼瓶?？蓡为毷褂茫部赏瑫r使用?？砷g斷使用，可連續(xù)使用（提倡），且產(chǎn)氣純度不衰減。設有多級保護裝置保護裝置，安全、可靠、穩(wěn)定。

詳細介紹

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一、HP2氦氣純化器儀器簡介

在去除氮氣方面，HP2加熱型氦氣純化器是的。在允許氮氣存在的應用里，非加熱型Metronics氦氣純化器提供了一個經(jīng)濟型選擇。

二、HP2氦氣純化器應用范圍

國產(chǎn)以及進口的各型號氣相色譜儀。

三、儀器特性

◆ Valco氦氣純化器可以凈化氦氣或者其他惰性氣體，如Ar、Ne、Kr、Xe中ppm級以下的活性氣體雜質(zhì)

載氣的純度在任何極度敏感的應用里都是必要的，雜質(zhì)會限制檢測器的靈敏度，甚至損壞毛細管柱。

◆純化器的純化基質(zhì)是一種非蒸散型的熱激活性吸氣合金，這種穩(wěn)定的合金被裝載在一個焊接組件中，在預防措施極簡單的工業(yè)應用中也能安全的使用。

◆當吸氣劑被加熱，顆粒表面的氧化層被消除，可以讓氦氣擴散到大量的吸氣劑顆粒里面。

◆自我調(diào)節(jié)功能的設計使純化器保持吸氣劑原料在zui合適溫度，避免過熱引起運行失控的可能性。

◆微型板被設計安裝在氣相色譜儀上游氣流路，連接進樣口。

◆ HPM可以去除一切由流路控制器、彈性密封管、壓力調(diào)節(jié)器等和其他不*清潔和防漏的系統(tǒng)零部件產(chǎn)生的污染物。

四、技術(shù)指標

型號	HP2
純化氣體	He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn
zui大工作壓力	1000psi
zui高工作溫度	400℃
zui大流速	1L/min
可去除雜質(zhì)	可去除雜質(zhì)：H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO和CO2；入口雜質(zhì)濃度：10ppm級；出口雜質(zhì)濃度：10ppb級以下；其他可去除雜質(zhì)包括CF4、CCl4、SiH4和CH4等碳氫化合物。
未去除雜質(zhì)	He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn