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TA610\620\630\631 測量(微調)平臺

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更新時間:2016-07-10 16:32:53瀏覽次數:1311次

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TA610測量平臺,齒條升降,立柱可以隨意轉動,用來測量不容易放置的工件,可提高測量精度。   TA620測量平臺,絲桿升降,平臺上設置V型槽,用來測量形狀較小的工件,可提高測量平臺。   TA630微調平臺,X—Y平面轉角,俯仰角。   TA631微調平臺,X—Y平面轉角。   TA630、631都用來較小幅度的,精確調整被測量工件的位置,提高測量精度。

產品說明:   TA610測量平臺,齒條升降,立柱可以隨意轉動,用來測量不容易放置的工件,可提高測量精度。   TA620測量平臺,絲桿升降,平臺上設置V型槽,用來測量形狀較小的工件,可提高測量平臺。   TA630微調平臺,X—Y平面轉角,俯仰角。   TA631微調平臺,X—Y平面轉角。   TA630、631都用來較小幅度的,精確調整被測量工件的位置,提高測量精度。

TA610\620\630\631 測量(微調)平臺 的詳細介紹

TA610測量平臺:

齒條升降,立柱可以隨意轉動,用來測量不容易放置的工件,可提高測量精度。
花崗巖平臺工作面精度:00級(平面公差值3μm)
花崗巖平臺大小尺寸:400mm×250mm×70mm
垂直升降高度:270mm
垂直升降微調量:20mm

 

 

 

 

TA620測量平臺:

絲桿升降,平臺上設置V型槽,用來測量形狀較小的工件,可提高測量精度。
花崗巖平臺工作面精度:00級(平面公差值3μm)
花崗巖平臺大小尺寸:400mm×250mm×70mm
垂直升降高度:300±1mm
升降回程誤差:≤手輪旋轉1/6圈


 

 

 

 

 

 

TA630微調平臺:

                                                           

X—Y平面轉角,俯仰角。
調整范圍:X向 ±12.5mm  Y向:±12.5mm
旋轉角度:粗調 360 微調±5 俯仰角度 0~5

 

 

 

 

TA631微調平臺:

X—Y平面轉角。
調整范圍:X向 ±12.5mm  Y向:±12.5mm
旋轉角度:粗調 360  微調±5

                                 

 



 

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