鑒于傳統nong藥高毒性高殘留，對人體造成巨大危害，同時對環境也造成*破壞，新型環保型nong藥替代傳統nong藥勢在必行。nong藥殺菌劑氫氧化銅制劑作為一種無殘留、無公害的新型nong藥，它的研發和生產得到了社會的普遍關注和認同。
nong藥殺菌劑氫氧化銅作用特點 有效成分為藍色膠凝或無定形藍色粉末，由六碳銅離子組成的球狀針刺型顆粒，能迅速黏附于作物表面，藥效持久。對高等動物低毒。是一種廣譜殺菌劑，通過釋放銅離子均勻覆蓋在植物表面，防止真菌孢子侵入而起保護作用，當病菌的細胞接觸銅離子之后，將其殺死，而對植物沒有影響，所以是一種無殘留、無公害的nong藥。但是其中的主要成分氫氧化銅溶液內的顆粒粒徑細度必須達到微納米級別，顆粒粒徑太大一方面噴霧會造成噴嘴堵塞，另一方面會產生沉淀，達不到殺菌的效果。這時候就需要對氫氧化銅顆粒進行研磨分散
實驗一：粉末加入水溶解配制一定濃度溶液，不加分散劑，直接加入依肯CMD2000/4研磨分散機進行研磨分散，打循環，結果發現溶液內氫氧化銅會發送絮凝，顆粒粒徑會增大。
實驗二：一定濃度氫氧化銅溶液，加入適量分散劑，使用上海依肯CMD2000/4研磨分散機進行研磨，轉速12000rpm，循環30分鐘后，顆粒粒徑顯著減小，循環一個小時后，顆粒粒徑90%達到10微米以下，粒徑分布范圍更窄，不會發生絮凝。
通過實驗對比，用實驗二的方法進行氫氧化銅研磨分散時效果明顯，可實現需求。
CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
CMD2000系列研磨分散機的結構：
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMD2000系列研磨分散機的特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。
CMD2000系列設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。 |
1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2.處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產品的要求。
3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數，以便選型和定制。
4.本表的數據因技術改動，定制而不符，正確的參數以提供的實物為準.
研磨分散機和均質機的作用對比：
研磨分散機的細化作用一般來說要強于均質機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質機的前道或者用于高粘度的場合。
