鑒于傳統(tǒng)nong藥高毒性高殘留，對(duì)人體造成巨大危害，同時(shí)對(duì)環(huán)境也造成*破壞，新型環(huán)保型nong藥替代傳統(tǒng)nong藥勢(shì)在必行。nong藥殺菌劑氫氧化銅制劑作為一種無殘留、無公害的新型nong藥，它的研發(fā)和生產(chǎn)得到了社會(huì)的普遍關(guān)注和認(rèn)同。
nong藥殺菌劑氫氧化銅作用特點(diǎn) 有效成分為藍(lán)色膠凝或無定形藍(lán)色粉末，由六碳銅離子組成的球狀針刺型顆粒，能迅速黏附于作物表面，藥效持久。對(duì)高等動(dòng)物低毒。是一種廣譜殺菌劑，通過釋放銅離子均勻覆蓋在植物表面，防止真菌孢子侵入而起保護(hù)作用，當(dāng)病菌的細(xì)胞接觸銅離子之后，將其殺死，而對(duì)植物沒有影響，所以是一種無殘留、無公害的nong藥。但是其中的主要成分氫氧化銅溶液內(nèi)的顆粒粒徑細(xì)度必須達(dá)到微納米級(jí)別，顆粒粒徑太大一方面噴霧會(huì)造成噴嘴堵塞，另一方面會(huì)產(chǎn)生沉淀，達(dá)不到殺菌的效果。這時(shí)候就需要對(duì)氫氧化銅顆粒進(jìn)行研磨分散
實(shí)驗(yàn)一：粉末加入水溶解配制一定濃度溶液，不加分散劑，直接加入依肯CMD2000/4研磨分散機(jī)進(jìn)行研磨分散，打循環(huán)，結(jié)果發(fā)現(xiàn)溶液內(nèi)氫氧化銅會(huì)發(fā)送絮凝，顆粒粒徑會(huì)增大。
實(shí)驗(yàn)二：一定濃度氫氧化銅溶液，加入適量分散劑，使用上海依肯CMD2000/4研磨分散機(jī)進(jìn)行研磨，轉(zhuǎn)速12000rpm，循環(huán)30分鐘后，顆粒粒徑顯著減小，循環(huán)一個(gè)小時(shí)后，顆粒粒徑90%達(dá)到10微米以下，粒徑分布范圍更窄，不會(huì)發(fā)生絮凝。
通過實(shí)驗(yàn)對(duì)比，用實(shí)驗(yàn)二的方法進(jìn)行氫氧化銅研磨分散時(shí)效果明顯，可實(shí)現(xiàn)需求。
CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：
研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
CMD2000系列設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).
研磨分散機(jī)和均質(zhì)機(jī)的作用對(duì)比：
研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。
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