實驗內容:
觀察會聚偏振光激光LiNbO3晶體后形成的干涉圖形,
比較不同電壓下的差異,理解單軸與雙軸晶體的區別;
觀察測量不同電壓條件下的輸出光的偏振態;
理解Pockels效應的工作機理,測量半波電壓,確定△n與E的線性關系,繪出調制曲線;
用外加電信號對晶體進行調制,實驗電信號的光傳輸;
理解工作點對調制、傳輸過程的影響。
儀器特點:采用半導體激光器(650nm,4mW)作為光源,使得實驗操作靈活、簡單;可觀察在電場作用下LN晶體由一個單軸晶體變化為雙軸晶體的過程,干涉圖樣完整、清晰。
儀器參數:
光學實驗導軌800mm,半導體激光器650nm 4mW;激光功率計數字表頭,量程分別為200Μw、2mW、20mW、200mW和可調檔;晶體的通光面積為5*5mm;大驅動電壓Vmax≥1600V。
實驗內容:
觀察會聚偏振光激光LiNbO3晶體后形成的干涉圖形,
比較不同電壓下的差異,理解單軸與雙軸晶體的區別;
觀察測量不同電壓條件下的輸出光的偏振態;
理解Pockels效應的工作機理,測量半波電壓,確定△n與E的線性關系,繪出調制曲線;
用外加電信號對晶體進行調制,實驗電信號的光傳輸;
理解工作點對調制、傳輸過程的影響。
儀器特點:采用半導體激光器(650nm,4mW)作為光源,使得實驗操作靈活、簡單;可觀察在電場作用下LN晶體由一個單軸晶體變化為雙軸晶體的過程,干涉圖樣完整、清晰。
儀器參數:
光學實驗導軌800mm,半導體激光器650nm 4mW;激光功率計數字表頭,量程分別為200Μw、2mW、20mW、200mW和可調檔;晶體的通光面積為5*5mm;大驅動電壓Vmax≥1600V。