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CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

研磨分散設備的結構：

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

研磨分散設備的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

CMD2000系列設備選型表

 如有疑問請致電IKN銷售工程師，IKN全體員工將竭誠為您服務！ IKN主：www.iknchina.com   段明明  

研磨分散設備的應用領域：
①食品工業：果茶、冰淇淋、月餅餡、果醬、果汁、豆醬、豆沙、花生奶、乳制品，麥乳精、各種飲料等。

②化學工業：油漆、顏料、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、洗滌劑、玻璃鋼、二氧化硅等。
③日用化工：牙膏、洗滌劑、洗發精、鞋油、高級化妝品、沐浴精、肥皂、香脂等。
④醫藥工業：各型糖漿、中成藥、生物制品、蜂皇漿、疫苗、藥膏、口服液、針劑等。
⑤建筑工業：各種涂料。包括內外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工業：塑料工業、紡織工業、造紙工業、煤炭浮選劑、納米材料等行業優質環保的生產需要。