MYCRO公司提供美國*勻膠旋涂儀，請您放心選購！
MYCRO美國*的旋涂儀，自1985年開始，我們便為提供化工半導體材料清潔涂敷處理等特殊工藝。公司擁有WS系列各類旋轉涂敷系統，目前客戶已遍布。

勻膠機有很多種稱謂，英文叫Spin Coater或者Spin Processor，又稱甩膠機、勻膠臺、旋轉涂膠機、旋轉涂膜機、旋轉涂層機/旋轉涂層儀、旋轉涂布機、旋轉薄膜機、旋轉涂覆儀、旋轉涂膜儀、勻膜機 旋涂儀

特色：
◆ 科研制備理想的旋涂儀;   
◆ 天然聚丙烯或特氟龍材質構造;
◆ 216毫米，318毫米和370毫米三種腔體大小;
◆ 可選擇臺面式，和用于濕站或者手套箱系統的不同構造;
◆ zui大轉速可達12000RPM;
◆ 易編程的數碼控制器（WS650型控制器）;
◆ 可升級成為自動滴膠型;

請根據您實際需要的大小和材質選擇相應的旋涂儀型號： 
訂購代碼 尺寸范圍 配置內容
WS-650-23N   銷量的臺式系統
WS-650-23N-IND  IND構造為濕站系統設計，帶遠程控制;
WS-650-23N-OND OND構造為手套箱系統設計，帶遠程控制;

可以涂敷zui大直徑為6英寸 (150 毫米)或5英寸 X 5英寸 (125 X 125 毫米)的方形基底材料  zui小可達10 mm（可選配zui小到3mm或5mm）涂敷

材質：天然聚丙烯 
 腔體直徑：9.5英寸 (241 毫米) 
zui高轉速可達12000轉/分

加速度可達：13000 RPM/S
 

WS-650-8N
WS-650-8N-IND  IND構造為濕站系統wet-bench設計，帶遠程控制;
WS-650-8N-OND  OND構造為手套箱系統設計，帶遠程控制;

可以涂敷zui大直徑為8英寸 (200 毫米)或7英寸 X 7英寸 (178 X 178 毫米) 的方形基底材料  材質：天然聚丙烯 
 腔體直徑：12.5英寸 (318 毫米) 
 zui高轉速可達12000轉/分
WS-650-15N

WS-650-15N-IND  IND構造為濕站系統wet-bench設計，帶遠程控制;
WS-650-15N-OND  OND構造為手套箱系統設計，帶遠程控制;

可以涂敷zui大直徑為13英寸 (330 毫米)的基底材料  材質：天然聚丙烯 
 直徑為14.5英寸 (370 毫米)半圓形處理腔

WS-650-XN
WS-650-XN-IND  IND構造為濕站系統wet-bench設計，帶遠程控制;
WS-650-XN-IND  OND構造為手套箱系統設計，帶遠程控制;

zui大涂敷尺寸可訂制  材質：天然聚丙烯 

主營產品：勻膠機，旋涂儀，甩膠臺，勻膠臺，涂層機，涂膠機，涂膜機,旋轉涂敷儀, HPC,PPC, PAC，SCE系列等離子清洗機， Cargille光學試劑，光刻機/曝光機，壓力機, 壓片機, 熱壓機，WABASH熱壓機, CARVER熱壓機,LAURELL、HOT PLATE熱板 烤膠機

Laurell
Harrick等離子清洗機
Diener等離子清洗機
Carver手動壓片機
Uvitron紫外固化箱
Novascan紫外臭氧清洗機
Wenesco/EMS/Unitemp加熱板
Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統，濕站系統
NXQ光刻機
Midas光刻機
AlphaPlasma等離子系統
Anatech等離子系統
Wabash/Carver自動壓片機
Nanomaster系統
 

公司名稱:邁可諾技術有限公司
：趙
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