HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將zui先與二氧化硫發生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發酵，并抑制其他雜菌。 

• 基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體
• 性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果
• 人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。

產品參數

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型號								HI 84100
滴定范圍								0 to 400 ppm of SO2
滴定方法								等電位氧化還原滴定法
滴定精度								讀數的5%
取樣量								50 mL
ORP電極								HI 3148B
供電方式								220V/60 Hz；10VA
使用環境								0 to 50°C （32 to 122°F）；RH max 95%
尺寸重量								208 × 214 × 163 mm；2200 g

標準配置

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HI 84100

食品行業二氧化硫滴定分析測定，HI3148B電極，滴定試劑，相關附件，中英文手冊

選購附件

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HI 70300L	電極保存液
HI 7061L	常規電極清洗液 ，500mL，瓶裝
HI 731318	比色皿清洗布，4塊每組
HI 3148B/50	二氧化硫滴定分析測定儀氧化還原（ORP）電極，范圍：0 to 400 ppm SO2
HI84100-50	二氧化硫滴定分析試劑，范圍：0 to 400 ppm SO2，類型：水劑，規格：110 ml
HI84100-51	二氧化硫堿性滴定分析試劑，范圍：0 to 400 ppm SO2，類型：水劑，規格：500 ml
HI84100-52	總二氧化硫酸性滴定分析試劑，范圍：0 to 400 ppm SO2，類型：水劑，規格：500 ml
HI84100-53	游離二氧化硫堿性滴定分析試劑，范圍：0 to 400 ppm SO2，類型：水劑，規格：5 00 ml
HI84100-54	二氧化硫滴定分析穩定試劑，范圍：0 to 400 ppm SO2，類型：粉劑，規格：25袋
HI84100-55	二氧化硫滴定分析校準標準液，范圍：0 to 400 ppm SO2，類型：水劑，規格：500 ml