一、硅材料沖洗用高純水設備應用范圍概述：

電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

電子管生產　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

顯像管和陰極射線管生產　配料用純水

黑白顯像管熒光屏生產　玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

液晶顯示器的生產　屏面需用純水清洗和用純水配液

晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

集成電路生產中高純水清洗硅片

二、典型工藝流程

     預處理系統－反滲透系統－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象 （≥18MΩ.CM）（傳統工藝）

      預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）（工藝）

       預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥17MΩ.CM） （工藝）     

         預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥15MΩ.CM）（工藝）

          處理系統－反滲透系統－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象 （≥15MΩ.CM）（傳統工藝）

三、達到標準

  顯像管、液晶顯示器用純水水質（經驗數據）

    集成電路用純水水質

    國家電子級純水標準

    美國SEMI標準

四、設備特點

        為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用*和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。