雙盤壓力研磨拋光機廠家

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 產品描述：

雙盤壓力研磨拋光機主要用于材料研究領域。適用于金屬、晶體、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的研磨拋光，也可用于工廠的小規模生產。該機具有加工精度高，性能穩定可靠，操作簡單，適用范圍廣的特點。本機廣泛應用于大專院校，科研院所以及生產領域。
該機裝備了二個研磨拋光盤，可以把研磨工序、拋光工序分開來做，避免了交叉污染，提高了工作效率。本機提供的壓力穩定可靠，zui大壓力可以達到200N。
雙盤壓力研磨拋光機采用大尺寸彩色觸摸屏操作，界面友好，操作方便。全部操作程序都在機器的上部設定，減少了機器下部進水影響機器運行的風險。

 主要技術指標：

1.磨拋盤（下盤）直徑：φ300mm（雙盤）
2.磨拋盤（下盤）轉速50-400rpm（增量調速，zui小增量10）
3.載樣盤（上盤）直徑：φ150mm   桃形孔直徑：φ25.4mm
4.磨拋頭主軸轉速10-80rpm（無級調速）
5.加載范圍0.5-20Kg（zui小增量0.5Kg）

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