應(yīng)用范圍
主要用于在塑料、陶瓷、金屬等材質(zhì)部門鍍制金屬膜、仿金膜等，更換不同的靶材，可得到不同的膜系，如超硬、耐磨、防腐的合金磨等。
主要用于在塑料、陶瓷、金屬等材質(zhì)部門鍍制金屬膜、仿金膜等，更換不同的靶材，可得到不同的膜系，如超硬、耐磨、防腐的合金磨等。
結(jié)構(gòu)特點(diǎn)
1、同時(shí)配備*的圓柱磁控濺射裝置和高效的電阻加熱蒸發(fā)裝置，將磁控濺射技術(shù)和加熱蒸發(fā)技術(shù)的有效結(jié)合，使設(shè)備的適用范圍更廣，可得到多種不同性能的膜層；
2、*的雙門（室）結(jié)構(gòu)，使工件及鍍料的裝卸與鍍膜可同時(shí)進(jìn)行，大大提高工作效率。
1、同時(shí)配備*的圓柱磁控濺射裝置和高效的電阻加熱蒸發(fā)裝置，將磁控濺射技術(shù)和加熱蒸發(fā)技術(shù)的有效結(jié)合，使設(shè)備的適用范圍更廣，可得到多種不同性能的膜層；
2、*的雙門（室）結(jié)構(gòu)，使工件及鍍料的裝卸與鍍膜可同時(shí)進(jìn)行，大大提高工作效率。
磁控濺射鍍膜技術(shù)
用幾十電子伏或更高動(dòng)能的荷能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而濺出進(jìn)入氣相，這種濺出的，復(fù)雜的粒子散射過(guò)程稱為濺射。濺射鍍膜是利用濺射現(xiàn)象來(lái)達(dá)到制取各種膜層的目的，即在真空室中利用荷能離子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子在基底上沉積的技術(shù)。在與靶表面平行的方向上施加磁場(chǎng)，利用電場(chǎng)和磁場(chǎng)相互垂直的磁控管原理減少了電子對(duì)基底的轟擊，有效降低了基底溫度，使高速濺射成為可能。
：李生
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電子郵件：vacuumsale
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