應用范圍
主要用于鍍制多種金屬，也可以鍍多層膜、合金膜及化學物膜，如鍍超硬耐磨損膜、防腐蝕膜、裝飾膜（金、銀、黑、紅、藍、綠等顏色），結合磁控濺射技術可鍍制多層復合膜。
主要用于鍍制多種金屬，也可以鍍多層膜、合金膜及化學物膜，如鍍超硬耐磨損膜、防腐蝕膜、裝飾膜（金、銀、黑、紅、藍、綠等顏色），結合磁控濺射技術可鍍制多層復合膜。
可以鍍制不銹鋼、鋁、鈦、鎢等多種金屬膜，也可鍍制合金膜或化合物，如TiN、TiC膜等, 適用于在表殼、眼鏡框、餐具、五金件、*、陶瓷等表面鍍制裝飾膜或功能膜。近年，電弧離子鍍膜技術得到了很大的發展，從原來單一的小弧源發展到柱弧、大平面弧等。而且與中頻磁控濺射技術的結合使得設備的適用面更廣，比如在硬質涂層的應用、更光潔細密的裝飾涂層的應用等等。
結構特點
1、采用脈沖技術，使沉積粒子細化，膜的性能提高，且具有沉積速度快、離子能力大等特點；
2、配備柱狀陰極點弧源和磁控濺射源，適合范圍廣；
3、新型靶源結構，有效提高離化率和膜層均勻性；
4、所鍍膜層具有硬度高，膜層與基底結合強度好，耐酸、堿、鹽的能力強的特點.
：李生
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：526000
電子郵件：vacuumsale
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