主要用途
是生產各種金屬膜電阻及氧化膜電阻的設備，可以完成高、中、低不同阻值的鍍膜工藝。

主要組成
設備由真空室、真空機組、直流濺射源、射頻濺射源、分流式滾筒、充氣裝置、真空測量及其它輔助裝置等組成。

主要特點
★生產能力大，根據型號的不同，每爐可鍍制裝載量達分別為10～11Kg、20～25Kg、30～40Kg左右的瓷體。
★磁控濺射源工作特性穩定可靠，沉積速率高，陰極體采用可變磁場，大大提高了靶材的利用率，在40%以上。
★根據不同電阻值和工藝要求配置不同濺射源，工藝適應性強。如配置射頻濺射源可鍍制介質膜，配備離化源可鍍制氧化膜。
★采用特殊分流式滾筒，瓷體鍍制膜層均勻，阻值集中。
★如配用PLC可編程控制，設備自動化水平提高，性能更加可靠，操作更為簡便。
★調節沉積室的氣氛可控沉積膜的阻值和TCR（溫度系數）；鍍制后電阻在合適的“后調整”熱處理后TCR可接近于零。

溫州市佳能真空電鍍設備科技有限公司是一家以真空鍍膜設備為主營業務，集研發、生產、銷售、服務于一體的綜合性高科技環保型企業。佳能真空既是設備制造商，也是鍍膜工藝的開發商，可為客戶提供整套設備、工藝流程的設計以及技術人員的培訓。

公司擁有一支技術精良的研發團隊，并聘請國內外多位專家為技術顧問，具備較強的自主研發能力，現已研發制造連續式磁控濺射鍍膜生產線、平面矩形弧工具鍍膜機、多功能中頻磁控濺射多弧復合離子鍍膜機、中頻磁控濺射鍍膜機、多弧離子鍍膜機、光學鍍膜機以及真空蒸發鍍膜機等系列真空鍍膜設備。佳能真空多年來憑著優質的產品和周到的售后服務，深受業內人士的好評，并已通過ISO9001質量管理體系認證。

科技創造品質、誠信打造品牌是我們的經營原則，信譽*、客戶*是我們的服務宗旨，*的售后服務是我們的服務保障，不斷創新是我們佳能永恒的追求，我們將竭誠為國內外客商提供更好的產品，更優的價格和更完善的售后服務，佳能真空期待與您共創佳業。

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