上海沃家真空設備科技有限公司是國內*的真空鍍膜工程集成供應商，緊緊圍繞客戶需求持續創新，為客戶創造較大價值。我們對伙伴開放合作，在新能源、新材料、建筑/汽車、精密制造、重工/*等領域構建技術與服務優勢。我們致力于為企業、科研院所、薄膜涂層加工中心等提供有競爭力的綜合解決方案和服務。
本公司產品主要有：連續式磁控濺射鍍膜生產線、平面弧工模具硬質涂層設備、多功能中頻磁控濺射多弧復合離子鍍膜機、中頻磁控濺射鍍膜機、多弧離子鍍膜機、光學鍍膜機等系列真空鍍膜設備。
產品廣泛用于太陽能、半導體、Low-E玻璃、光電、平板顯示、工模具、鐘表五金、3C產品、塑料、陶瓷等。本公司擁有完善的研發體系、生產制造體系及客戶服務體系，并聘有國內外多位專家。目前，產品及工藝遍布全國各地及海外地區。
公司是全體員工價值實現和提升的理想平臺。致力于為客戶提供*質*的表面處理解決方案，進一步整合公司內外資源，加大研發投入，不斷推出新技術、新產品，以滿足國內外市場需求，創造Z佳的社會、經濟和環境效益。
真空磁控濺射鍍膜機廣泛應用于家電電器、鐘表、燈具、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表面原子從母體中逸出的現象，早在1842年Grove在實驗室中就發現了這種現象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+并產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰極（濺射靶）并以高能量轟擊靶表面，使靶材發生濺射。
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