全反射X熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EDXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了EDXRF方法的*性。它突出的優點是檢出限低（pg、ng/mL級以下）、用樣量少（μL、ng級）、準確度高（可用內標法）、簡便、快速，而且可進行無損分析，成為一種不可替代的全新的元素分析方法。上每兩年召開一次TXRF分析技術討論會，該技術被譽為在分析領域是有競爭力的分析手段、在原子譜儀領域內處于地位。

在X熒光譜儀范圍內，與波長色散譜儀（WDXRF）方法比較，由于TXRF分析技術用樣量很少，也不需要制作樣品的煩瑣過程，又沒有本底增強或減弱效應，不需要每次對不同的基體做不同的基體校準曲線。另外由于使用內標法，對環境溫度等要求很低。因而在簡便性、經濟性、用樣量少等方面，都比WDXRF方法有明顯的*性。

在整個元素分析領域內，TXRF技術可以對從鈉（11Na ）到鈾（92U）的所有元素進行分析，一次可以對近30種元素進行同時分析，這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。與質譜儀中的ICP-MS和GDMS以及中子活化分析（NAA）等方法相比較，TXRF分析方法在快速、簡便、經濟、多元素同時分析、用樣量少、檢出限低、定量性好等方面有著綜合優勢。

◇  應用領域：
    TXRF在元素分析領域內的應用現狀和發展前景都是令人鼓舞的。它可以廣泛用于地礦、冶金、化工、食品、生物、醫藥、環保、法檢、考古、高純材料等等各領域內的常量、微量、痕量元素分析測定，特別在半導體工業中的硅表面質量控制方面，有著不可替代的優勢，目前已在上得到廣泛應用。
 地礦：金礦、銅精料和鎳精料、螢石、長石、氧化銻
冶金：鎳電解液、銅陽極泥、高冰鎳中的貴金屬、光譜純Rh、金銀首飾、鑄鐵、軸承
化工：柴油中的硫含量、各種催化劑、陶瓷釉料
環境保護：自來水、大氣飄塵、污水污泥
生物：海洋動物牙齒和體液
醫藥：頭發和指甲中的有益有害元素、丹參中的有害微量元素
食品：飲料中的元素
刑偵法醫：現場樣品鑒定
考古：青銅器等
材料：高純石英雜質含量，KTP晶體注入Er的認定