| 一、用途 XPV-203E/XPV-203Z 透反射偏光顯微鏡及熔點測定系統是地質、礦產、冶金、石油化工、化纖、半導體工業以及藥品檢驗等部門和相關高等院校高分子等專業的專業實驗儀器。透反射偏光顯微鏡可供廣大用戶作單偏光觀察,正交偏光觀察,錐光觀察及顯微攝影,觀察物體在加熱狀態下的形變、色變及物體的三態轉化。透反射偏光顯微鏡采用微電腦檢測,有自動P、I、D調節及模糊手動調節功能,通過LED顯示溫度值及設定溫度值,儀表顯示準確、清晰、穩定,對溫度控制 |  |  | 透反射偏光顯微鏡 XPV-203E | 透反射偏光顯微鏡 XPV-203Z | | | 可設定程序,設有“上、下”限自動報警 裝置,并可隨時檢查設定的溫度數據,是新一代熔點測溫、控溫裝置。顯微鏡配置有石膏λ、云母λ/4試片、石英楔子和移動尺等附件。本儀器具有可擴展性,可以接計算機和數碼相機,對圖片進行編輯、保存和打印。是一組具有較完備功能的新型產品。 | 二、系統簡介 | 透反射偏光顯微鏡系統是將精密的光學顯微鏡技術、的光電轉換技術、的計算機圖像處理技術地結合在一起而開發研制成功的一項高科技產品。透反射偏光顯微鏡可以在顯示屏上很方便地觀察實時動態圖像,并能將所需要的圖片進行編輯、保存和打印。 | 三、技術參數: | 1.目鏡: 類 別 | 放大倍數 | 視場(mm) | 網格目鏡 | 10X | φ18 | 十字目鏡 | 10X | φ18 | 分劃目鏡 | 10X | φ18 | 2.物鏡: 類 別 | 放大倍數 | 數值孔徑(NA) | 工作距離(mm) | 蓋玻片厚度(mm) | 物 鏡 | 4X | 0.10 | 7.80 | - | 10X | 0.25 | 4.70 | - | 25X | 0.40 | 1.75 | 0.17 | 40X | 0.65 | 0.72 | 0.17 | 63X | 0.85 | 0.18 | 0.17 | 3.放大倍數:40X-630X 系統放大倍數:40X-2600X 4.聚光鏡數值孔徑:NA1.2/0.22 搖出式消色差聚光鏡,中心可調。 5.起偏鏡:振動方向360°可調,帶鎖緊裝置,可移動光路 6.檢偏鏡:可移出光路,旋轉范圍90°內置勃氏鏡,中心、焦距可調 7.補償器:λ片(φ18mm,一級紅,光程差551nm) λ/4片(φ18mm, 光程差147.3nm) 石英楔子(12x28mm,Ⅰ-Ⅳ級) 8.調焦系統:帶限位和調節松緊裝置的同軸粗微調,格值為0.002mm 9.電光源:6V/20W鹵素燈(亮度可調) | 四、反射照明、同軸照明器(又名垂直照明器) 同軸照明器又名垂直照明器,它是顯微鏡垂直照明系統,系統系數1倍,可適配與各型號的普通(160mm機械筒長,斜筒式)顯微鏡 。可作為反射光照明系統下觀察不透明物體表面細微結構。 垂直照明裝置配置與顯微鏡上不僅能進行一般金相分析、微粒分析測試還可以對非金屬不透明物體進行分析、觀察而且配有偏光系統,作偏光觀察。 | 五、系統組成 | 透反射偏光顯微鏡(XPV-203E):1、偏光顯微鏡 2、同軸照明器 3.攝像器(CCD) 4.A/D(圖像采集) 5、計算機 透反射偏光顯微鏡(XPV-203Z):1、偏光顯微鏡 2、同軸照明器 4、數碼相機系統 | 六、選購件 | 打印此欄樣本 | 1、高像素成像系統 2.偏光顯微鏡分析軟件 | | 典型應用圖例 | 儀器圖解說明 | | | |
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