采用單片晶圓濕式工藝設備,適用于2"-6"晶圓、4″- 8″晶圓、8″- 12″晶圓。
-
工藝過程可編程,適應于晶圓最終清洗、投片前清洗、晶圓刻蝕等不同工藝
-
可對正面及背面同時進行清洗或腐蝕
-
采用雙手指機械臂傳送晶圓
-
采用雙面無基礎清洗載物臺
-
配備雙面PVA刷洗功能
-
配備藥液控溫單元
-
配備自動配藥單元
-
可選配兆聲單元
-
可選配自動滅火單元
采用單片晶圓濕式工藝設備,適用于2"-6"晶圓、4″- 8″晶圓、8″- 12″晶圓。
工藝過程可編程,適應于晶圓最終清洗、投片前清洗、晶圓刻蝕等不同工藝
可對正面及背面同時進行清洗或腐蝕
采用雙手指機械臂傳送晶圓
采用雙面無基礎清洗載物臺
配備雙面PVA刷洗功能
配備藥液控溫單元
配備自動配藥單元
可選配兆聲單元
可選配自動滅火單元
Copyright hbzhan.comAll Rights Reserved
環(huán)保在線 - 環(huán)保行業(yè)“互聯(lián)網(wǎng)+”服務平臺
*您想獲取產(chǎn)品的資料:
個人信息: