LGA-4500激光氣體分析儀
技術參數:
基于半導體吸收光譜技術的旁路分析產品,測量精度高、漂移小系統以高穩定性、低噪聲的半導體激光器為光源,采用半導體激光吸收光譜 (DLAS) 技術的旁路氣體分析系統。由于有效克服了背景氣氣體組份、粉塵顆粒、光源變化等因素對測量的影響,系統不僅擁有抗力強,檢測靈敏度高的特點,還具有測量漂移小、可靠性高等優勢。
高溫、強腐蝕性氣體的在線檢測
系統采用非接觸光學檢測技術,可對各類高溫氣體(超過140℃)進行直接分析;針對各類腐蝕環境下的檢測應用,系統可選配316L、Monel、PTFE等多種材質的測量氣室,滿足各類應用要求。
安裝于過程管道現場的旁路處理系統,可靠性高、響應速度快
基于半導體激光吸收光譜(DLAS)*的技術優勢,系統可采用熱法處理(預處理系統加熱至100℃以上)和分析,旁路處理裝置無運動部件,可靠性高;系統環境適應能力強,可直接安裝在過程管道處取樣、處理和分析,響應速度快。
全系統防爆,支持氣體溫度、壓力補償
系統(包括旁路處理裝置)全部采用防爆設計,可滿足各類危險區域的應用要求,安全可靠。同時,系統還可選溫度、壓力傳感模塊,可對氣體溫度、壓力進行實時監測和補償,滿足高精度測量要求。
LGA-4500激光氣體分析儀