荷蘭SPARKNANO薄膜沉積機床Vellum系列赫爾納供應(yīng)

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積機床Vellum系列赫爾納供應(yīng)，由赫爾納德國總部直接采購，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗,原裝產(chǎn)品,支持選型，為您提供一對一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報價，價格優(yōu)，設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。

公司簡介：

SparkNano 開發(fā)和供應(yīng)用于能源、OLED 和相關(guān)應(yīng)用的空間原子層沉積設(shè)備。SparkNano 初成立于 2018 年，是 TNO（荷蘭應(yīng)用科學(xué)研究組織）的衍生公司。該公司的產(chǎn)品使其客戶能夠無縫地從實驗室擴展到晶圓廠。除了高質(zhì)量的設(shè)備外，經(jīng)驗豐富的團(tuán)隊還支持流程開發(fā)和優(yōu)化，提供應(yīng)用支持以及產(chǎn)量和性能管理。SparkNano 位于埃因霍溫。

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積Vellum系列產(chǎn)品介紹：

SPARKNANO薄膜沉積Vellum系列專為片對片 （S2S） 應(yīng)用量身定制，可在 0.5 x 0.5m 至 1.5 m 的基材上沉積。VELLUM系列是高通量、全自動空間原子層沉積解決方案。Vellum 系列專為超高通量片材應(yīng)用而設(shè)計，可隨時集成到您的全自動批量生產(chǎn)過程中。Vellum 系列可以處理剛性基材，如晶圓和玻璃板，也可以處理安裝在載體上的靈活箔。

金屬或聚合物箔、晶片、玻璃和多孔基材等基材。所有這些都旨在實現(xiàn)高達(dá)每分鐘 20 個基板的實際生產(chǎn)吞吐量。與各種沉積材料和沉積溫度相結(jié)合。系統(tǒng)的襯底流處理和在線集成設(shè)置將根據(jù)整體設(shè)置需要進(jìn)行設(shè)計。

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積Vellum系列優(yōu)勢特點：

? 大批量全自動襯底加載和卸載

? 襯底尺寸高達(dá) 500 mm x 500 mm

? 等離子體增強和熱原子層沉積

? 支持多種前驅(qū)體和配方

? 無掩模圖案沉積

? 大氣 N2 和 Ar 惰性氣體操作模式

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積Vellum系列技術(shù)規(guī)格：

? 典型的沉積材料：IrO2，Ir，Pt，Al2 O3，TiO2，SiO2，SnO2，ZnO等等

? 加工溫度：空間熱原子層沉積 （ALD） 50°C - 250°C/等離子體增強空間原子層沉積 （ALD） 50°C - 200°C

? 生產(chǎn)力：模塊化系統(tǒng)根據(jù)應(yīng)用需求進(jìn)行調(diào)整，需要多個沉積室以優(yōu)化產(chǎn)量

? 系統(tǒng)尺寸：2 模塊版本 6 米（寬）x 3 米（深）x 2.1 米（高）

荷蘭SPARKNANO薄膜沉積Vellum系列主要應(yīng)用：

薄膜沉積Vellum產(chǎn)品線是一個用于高通量的全自動空間原子層沉積的加工平臺。