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廣電計量檢測集團股份有限公司

半導體芯片清洗用高純水設備的設計

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱蘇州市創聯凈化設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地蘇州市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2024/10/15 10:34:26
  • 訪問次數128
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蘇州市創聯凈化設備有限公司成立于2005年是一家從事工業純水設備、廢水處理設備及工程、中水回用設備及工程、廢水設備及工程的專業水處理設備生產廠家;公司擁有專業的水處理工程師,電器一體化工程師,完善的售后團隊,集設計、研發、制造、銷售、安裝、維護于一體的專業水處理公司;

近幾十年來,隨著社會的進步和經濟的發展,中國水資源緊張問題變得越來越嚴重、工業企業如電鍍、涂裝、電泳、化等表面處理行業中因生產所使用水資源有效利用率較低,水資源浪費嚴重;為響應國家環保號召,改善生態環境,提高廢水有效利用率,減少廢水排放量及污染量;

通過發展污水處理新技術、提高污水回用率,減少污水及污染物排放量,降低企業處理凈化成本,保護現有可利用水資源不被污染和破壞已迫在眉睫;

廢水凈化回用方法有:絮凝沉淀法,超濾攔截過濾法、反滲透系統脫鹽濃縮法、低溫濃縮法。蒸發結晶法等工藝;

創聯公司成立以來,服務于不同行業客戶群體,擁有獨立的水處理實驗室,可根據客戶水樣,環評要求,廢水特點以及客戶真實訴求,設計出完善的水資源配置方案及優化方法,改變水資源利用過程中出現的不合理狀況,從根本上解決水資源緊張,水資源污染,水資源利用不充分等問題;

創聯公司成立以來一直堅持:以質量求生存,以服務求發展的理念,逐漸建立完善了質量管理體系及售后服務規范化。公司先后加入“中國膜工業協會”、“蘇州市環境保護協會”等多家行業協會,并通過了歐盟CE認證,有認可的企業質量生產證書。公司在醫藥、醫療器械、微電子、電鍍、涂裝、太陽能光伏、表面處理、精細化工行業有上千家客戶群體,公司愿景:通過產品創新、技術創新,努力提高服務質量,成為環保水處理行業一家負責任、可信賴的供應商。  

                           




純水設備,純凈水設備,反滲透設備;去離子水,高純水設備
芯片封裝生產工藝流程簡介:芯片:為外購的合格芯片
半導體芯片清洗用高純水設備的設計 產品信息
芯片封裝生產工藝流程簡介:
   
  1. 芯片:為外購的合格芯片。
  2. 磨劃片:首先將藍膜貼在芯片的正面,目的是保護圓片正面的芯片防止擦傷、沾污等。接著利用全自動磨片機對芯片的背面進行研磨處理,使芯片厚度達到要求。磨片后將藍膜揭除。然后在芯片的背面貼一層藍膜,目的是將芯片固定從而可以進行劃片,并在劃片后分成每顆芯片時不會脫落,以便于下道裝片工序。接著利用全自動劃片機將晶片分離成單個芯片。在磨劃片過程中會產生熱量,因此需要用純水進行冷卻,同時在磨劃時芯片表面會產生細小微粒,需要用高純水設備產生高純水進行清洗。
   
   
   
電子級高純水設備工藝流程:
   
   
   
   
電子級高純水設備工藝介紹:
   
原水→原水箱→增壓泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→阻垢劑加藥系統/還原劑加藥系統→保安過濾器→中間水箱→高壓泵1→反滲透裝置1→中間水箱→PH調節裝置→高壓泵2→反滲透裝置2→純水箱→輸送泵→精密過濾器→EDI電除鹽系統→EDI高純水箱→輸送泵→拋光混床→TOC去除器→精密過濾器用水點
   
注:本系統采用反滲透+EDI處理工藝,主要有四個部分組成,預處理系統、二級反滲透主機系統、EDI電除鹽系統、拋光混床系統;
   
   
   
   
   
   
原水采用自來水通過增壓泵增壓進入石英砂過濾器、活性炭過濾器,去除水中的懸浮物、膠體、有機物及余氯,配套有絮凝劑加藥系統和阻垢劑加藥系統,可有效降低水中渾濁度,防止反滲透膜的結垢,提高反滲透膜的使用壽命;
   
二級反滲透系統采用美國陶氏反滲透膜技術,自動制膜技術有效保證每支膜的水處理性能。一級反滲透采用BW30-400型號的反滲透膜,該膜具有脫鹽率較高、操作壓力較小,抗污染性能,膜的脫鹽率可以達到99.7%;二級反滲透膜采用BW30-365系列膜,該膜廣泛使用二級反滲透系統中。二級反滲透出水水質電導率可以達到4微西門子以下;
   
EDI電除鹽系統采用西門子模塊,EDI作為綠色脫鹽模式,具有以下優點:占地面積省、運行成本低、系統設計簡單、水質穩定、安裝維修簡便、綠色環保,不需要酸堿再生、可實現連續生產。EDI出水電阻率可以達到15~17兆歐;
   
拋光混床系統采用上海樹脂廠和羅門哈斯合資品牌拋光核級樹脂,拋光混床作為制取超純水的核心部件,經處理后出水可以達到18兆歐以上,滿足微電子行業用水要求;
   
   
   
   
   
   
技術參數總表(以15t/h高純水設備為例)
   
   

項目型號

 CL-15T/H型高純水設備

應用行業

微電子沖洗用水

設備控制方式

觸摸屏 PLC控制,各液位、壓力連鎖控制,實現無人值守

產水量

15T/H

進水水質指標

市政自來水 ,電導率≤1000μS/cm

產水水質

電導率≤0.055μS/cm(電阻率≥18MΩ.CM

反滲透設備系統脫鹽率

99.7%

自來水損耗

26t/h

進水溫度

2~35℃

工作方式

24小時運行

設備運行質量

預處理部分約30

二級反滲透主機系統約5

EDI電除鹽和拋光混床:約4

設備額定功率

約55KW

電源

380V  AC  50HZ  三相五線

反滲透系統回收率

50~75%

主機設備規格尺寸

長6000*寬2500*2000

廠房建議尺寸(含操作維護空間)

19000*8000*7000

進水口徑

DN100 PN1.0法蘭接口

出水口徑

DN65 PN1.0法蘭接口

排污口徑

DN150 PN1.0法蘭接口

 
 
 
 
 
 
 
 


 

 

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