設備優勢
◎ 本設備為單面精密拋光設備,采用的機械結構和多種控制方法,拋光加工效率高,運行穩定。
◎ 整機采用PLC+觸摸屏控制系統,設備參數設置和操作簡單方便,系統運行穩定性高。
◎ 主電機采用變頻調速控制,實現主機軟啟動、軟停機降低設備運行沖擊,減少工件損傷。
◎ 工件拋光壓力采用氣缸加壓方式,通過電氣比例閥控制實現壓力的閉環控制,保證的施壓精度與穩定性。
◎ 上壓盤采用主動驅動方式,在確保產品撤光速率的前提下保證各工位拋光加工的統一性。
◎ 拋光盤與上壓盤都設置了冷卻水冷卻功能,在保證拋光液發揮效率的同時減少拋光盤面的變形。
性能參數
參數名稱 | 單位 | DL-855/4P-CMP | |
主電源 | V | 三相 380 | |
主電機功率 | KW | 15 | |
主電機轉速 | RPM | 0~85 | |
上盤驅動電機轉速 | RPM | 0~70 | |
拋光盤尺寸 | mm | 855 | |
加工尺寸 | 寸 | 2-8 | |
工作工位 | 組 | 4 | |
工件盤尺寸 | mm | Φ305x15 | |
單工位壓力 | Kg | 20~300 | |
拋光液流速 | L/min | 15(可調) | |
主盤溫度檢測 | 度 | ±5 | |
設備尺寸(W x D x H) | mm | 1200x1650x2250 | |
設備重量 | Kg | 約2450 |