型號:OTF-1200X-Ⅱ-S2
產品概述:OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區帶有升降雙通道進料系統的共蒸發多層沉積管式爐,通過升降雙通道進料系統可裝載4個不同材料的蒸發坩堝舟,并且可一次同時送入兩個蒸發坩堝源進入管式爐中進行共蒸發或反應蒸發。雙溫區管式爐可以實現快速加熱,并且通過對各個溫區設置不同的加熱溫度可以創建不同的溫度梯度從而實現蒸發沉積。雙通道進料系統可以在程序控制下將2個裝載不同蒸發料的坩堝一同推進拉出,實現共蒸發或者反應蒸發,特別適用于多層二維晶體材料的制備。
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技術參數實驗案例警示/應用提示配件詳情
管式爐 | -
雙溫區管式爐:兩個獨立的溫控系統對每個溫區進行獨立控溫 -
電壓:220V AC 50/60Hz -
功率:3KW -
加熱區長度:440mm -
恒溫區長度:300mm -
溫度曲線圖(兩個溫區設置在800℃時所測,僅供參考)(可點擊圖片查看詳細資料) -
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爐管材料:高純石英管 -
標配爐管尺寸:Φ100(外)×Φ94(內)×640(長) -
工作溫度:1200℃(<1h) -
連續工作溫度:1100℃ -
控溫精度:±1℃ -
推薦升溫速率:10℃/min |
坩堝推送機構(升降雙通道進料系統) | -
一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入爐管內部,并與坩堝相連接,實現溫度的實時監測(如圖1) -
升降雙通道進料系統放置在一中空的真空腔體中,上方采用不銹鋼真空法蘭進行密封,兩端同樣采用不銹鋼真空法蘭與坩堝推進裝置及管式爐進行連接,保證進料在真空狀態或者氣氛保護狀態下進行運作(圖2) -
進料系統真空腔體右端與管式爐連接法蘭處安裝有2個獨立小石英管(圖3) -
在升降雙通道進料系統中最多可放入4個坩堝(圖4),利用推送系統可交替將4個不同蒸發源單個依次送入石英管中,也可將放入不同材料的2個坩堝蒸發源一同送入,分別精確的推入兩個獨立的小石英管中(圖5),找到所需的蒸發溫度處進行共蒸發或者反應蒸發,保證實驗的重復性以及穩定性(圖6) -
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圖1 圖2 圖3 圖4 -
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圖5 圖6 |
坩堝推送控制系統 | |
真空表 | 機械壓力表+數顯壓力表 |
真空泵 | |
混氣系統 | |
水冷系統 | -
標配一16L循環水冷系統 -
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尺寸 | |
國家 | |
質保期 | 一年質保期,終生維護 |
質量認證 | |
使用注意事項 | -
爐管內氣壓不可高于0.02MPa -
由于氣瓶內部氣壓較高,所以向爐管內通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 -
當爐體溫度高于1000℃時,爐管內不可處于真空狀態,爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態 -
進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 -
石英管的長時間使用溫度<1100℃ -
對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數,若氣壓表示數大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發生(如爐管破裂,法蘭飛出等) |
應用舉例 | 此款管式爐具有多種用途: -
熱蒸發:將蒸發料放入坩堝中,通過移動坩堝來精確找到所需蒸發溫度 -
HPCVD:通入反應氣體實現反應蒸發沉積 -
共蒸發沉積或反應蒸發沉積:利用的雙通道進料裝置可以實現兩蒸發源的同時送入,實現共蒸發沉積或反應蒸發沉積 -
多層二維晶體:此套設備可以實現多層二維晶體的制備(硒化物硫化物等),操作方便簡單,實驗更具精確性、重復性。 |