純水設備可以將水中的導電介質幾乎去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。設備產水電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值。集成電路工業中超純水設備用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水設備產出的超純水。
依各種原水水質和用戶要求的不同，超純水設備的工藝大體可分為預處理、脫鹽和精處理三步。
　　預處理 包括砂濾、多介質過濾、軟化、加氯、調節pH、活性碳過濾、脫氣等。過濾可除去 1～20微米大小的顆粒，軟化和調節pH可防止反滲透膜結垢，加氯是殺菌。活性碳過濾是除去有機物和自由氯，脫氣是清除溶于水中的CO2等。
　　脫鹽 包括反滲透、離子交換。反滲透是滲透現象的逆過程,在濃溶液上加壓力,使溶劑從濃溶液一側通過半透膜向稀溶液一側反向滲透，脫鹽可達98%，并能除去99%的細菌顆粒和溶解在水中的有機物。離子交換的原理是當水通過陽離子交換樹脂時，水中的陽離子被陽離子交換樹脂吸附，樹脂上可交換的陽離子如H離子被置換到水中，并和水中的陰離子結合成相應的無機酸，如超純水：
　　這種含有無機酸的水，當下一步通過陰離子交換樹脂層時，水中的陰離子被陰離子交換樹脂吸附。樹脂上可交換的陰離子如OH離子被置換到水中,并與水中的H離子結合成水，即超純水
　　精處理 包括紫外線殺菌、終端膜過濾和超濾。紫外線消毒器紫外線殺菌是因生物體的核酸吸收紫外線光的能量而改變核酸自身結構,破壞核酸功能而使細菌死亡。殺菌的光譜波長為2600埃。各種膜過濾能除掉直徑大于 0.2微米的顆粒，但對于清除有機物則不如反滲透和超濾有效。反滲透設備超濾是把各種選擇性的分子分離。在超濾過程中，水在壓力下流過一個卷式或中空纖維膜棒。膜孔徑在10～200埃范圍內,薄膜厚度為0.1～0.5微米,附在一個中孔的纖維棒內壁上，超濾能除去細菌和0.05微米的粒子。
電子工業超純水概述
　　 超純水設備廣泛應用于半導體、花式棉花糖集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。反滲透設備目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。電子工業超純水設備的應用領域
1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水；
2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水；
3、實驗室和中試車間用超純水；
4、汽車、家電表面拋光處理；
5、光電子產品；
6、其他高科技精微產品；
7、超純材料和超純化學試劑
8、實驗室和中試車間

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