描述
JY-S100PLUS 是一款桌上型冷態(tài)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，標(biāo)配旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái)，特別適用于各種表面形貌的非導(dǎo)電樣品在掃描電鏡成像中的高質(zhì)量鍍膜，也可滿(mǎn)足電極鍍膜，半導(dǎo)體等材料鍍膜的要求。
主要特性
- 通過(guò)新型高效低壓直流磁控頭進(jìn)行“超冷”濺射，避免樣品表面受損；
- 對(duì)于近距離的樣品，新型磁控管設(shè)計(jì)可提供廣角覆蓋濺射；
- 用于泄氣、吹掃和排氣的獨(dú)立電磁閥設(shè)計(jì)，確保設(shè)備的快速運(yùn)行；
- 噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氣壓影響，可得到一致的鍍膜速率和的鍍膜效果。
- 可使用多種金屬靶材：Pt, Au, Au/Pd, Pt/Pd（Pt 靶為標(biāo)配），靶材更換快速方便。
技術(shù)參數(shù)
濺射系統(tǒng) | |
| 靶材 | Pt 靶為標(biāo)配，可選 Au，直徑 57mm x 0.1mm 厚 |
| 標(biāo)配旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái) | 旋轉(zhuǎn)速度：0~60rpm 連續(xù)可調(diào)，傾斜角度：-45°~ 45°連續(xù)可調(diào)； 不銹鋼腔體：直徑 120mm X 高 75mm； 觀(guān)察窗：直徑 120mm X 高 45mm； 標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺(tái)直徑 40mm，可放 4 個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)，其它規(guī)格可訂做；具有雙重鎖緊裝置，可確保樣品在旋轉(zhuǎn)傾斜時(shí)不會(huì)松動(dòng)脫落。 |
| 濺射電流 | 微處理器控制，安全互鎖，電流 0~40mA |
| 濺射頭 | 新型低電壓磁控管設(shè)計(jì)，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩 |
| 計(jì)量表 | 真空： Atm – 1*10-3mbar，電流：0~99mA |
| 控制方法 | 帶有“開(kāi)始”“暫停”按鈕的微處理控制器（1－999s），自動(dòng)抽氣、濺射、關(guān)機(jī)后自動(dòng)放氣。 |
真空系統(tǒng) | |
| 抽氣速率 | 133L/MIN |
| 極限真空 | 10-4 mbar 級(jí) |
| 噪音 | 56dB |
