產品介紹：
Helios設計與飛秒激光放大器一起工作，采集14 fs - 8 ns時域的瞬態吸收光譜，包括：基態漂白 (Ground StateBleaching)、激發態吸收 (Excited State Absorption)，受激輻射 (Stimulated Emission)等光譜信息。
籍此分析單線態能級躍遷引發超快速能量轉移、電子遷移、激發態能級躍遷、熒光輻射等信息。高速智能延時線，采集14 fs - 8 ns，采集~106時域的3D瞬態吸收光譜，需~30 min（5min fire）。10 nJ(10 μW @1 kHz)低能量泵浦，適用于OPV/OLED/AIE等材料研究。大光譜范圍：350 - 2400 nm，標配 450 - 800 nm。CMOS線陣列傳感器，數據采集可與1000 Hz（可選：5,000 Hz）激光器同步。可升級為漫反射(Diffused reflectance)瞬態吸收光譜儀，內置Kubelka–Munk方程計算光吸收，漫反射與透射可以切換使用。
產品參數：
延時分辨率 | 14 fs |
時間分辨率* | 1.4 x 激光脈沖時間 |
時間窗口 | 8 ns |
適合激光頻率 | 任意 |
探測波長
| 450 - 800 nm |
350 - 750 nm | |
選配：800 - 1600 nm | |
選配：1.6 – 2.4 µm | |
Vis檢測器 | CMOS線陣列傳感器 |
像素 | 1024 |
響應波長 | 200 - 1000 nm |
分辨率 | 2 nm (50 µm 狹縫時)，4 nm (200 µm 狹縫時) |
光譜范圍 | 600 nm (通常: 350 - 950 nm) |
采集速度 | 2400 條光譜/s，14bit |
NIR檢測器 | InGaAs線陣列傳感器 (選配) |
像素 | 256 |
響應波長 | 800 - 1600 nm |
分辨率 | 5 nm (50 µm 狹縫時)，13 nm (200 µm 狹縫時) |
光譜范圍 | 800 nm (通常: 800 - 1600 nm) |
采集速度 | 2400 條光譜/s，14bit； |
SWIR檢測器 | InGaAs線陣列傳感器 (選配) |
像素 | 256 |
響應波長 | 1000 - 2600 nm |
分辨率 | 5 nm (50 µm 狹縫時)，13 nm (200 µm 狹縫時) |
光譜范圍 | 800 nm (通常: 1600 - 2400 nm) |
采集速度 | 2400 條光譜/s，14bit |
數據格式 | ASCII CSV (兼容Excel) |
數據采集軟件 | Helios 4.x |
數據分析軟件 | Surface Xplorer |
光學模塊體積 (長寬高) | 915 X 610 X 250 mm3 |
電子模塊體積 (長寬高) | 534 X 610 X 686 mm3 |
* 分辨率與飛秒激光器的脈沖半峰寬有關，如果采用半峰寬為100fs的激光器，分辨率為140fs，在這里，分辨率是儀器的響應特征IRF。
主要應用：
1. 染料敏化光伏材料(CdSe, PbS量子點)的超快電荷分離研究
2. 有機光電材料（OPV）的電荷分離、電子遷移
3. 鈣鈦礦光伏材料的電荷分離、電子傳遞
4. 半導體載流子遷移率非線性光吸收材料的激發態吸收
5. 有機發光材料(OLED)的單線態失活、系間竄越、生成三線態過程
6. 金屬配位卟啉類材料
7. 光催化過程的超快電荷轉移
