電子超純水設備出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

   電子超純水處理設備，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用超純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會引起發光變色；含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃光跳躍；含有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產的12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用純水，每生產一個顯像管需用純水80kg。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發生故障，影響液晶屏質量，導致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產對純水水質的要求。

一、產品總述：

EDI超純水設備是用于工業生產用水水的純水制取裝置，根據客戶的需求采用的不同的工藝流程來制取符合客戶生產用純水的標準。系統采用RO+EDI純化水工藝，產水水質滿足客戶的生產用水要求，符合藥典、GMP、FDA要求。系統整體人性化設計，模塊化安裝，占地面積小，操作簡單方便，運行穩定，節能。

相關參數：

進水源：反滲透RO產水，電導率1-10μ?S/cm
PH值： 6.5-9.0
溫度： 5℃--38℃
硬度： ≤0.5ppm(以?CaCO3?計)
顆粒： ≤1μ?m
有機物： TOC?小于?0.5ppm（建議檢測不出）
氧化物： ≤0.02ppm
硅： ≤0.02ppm
重金屬離子： ≤0.1ppm
進水壓力： 0.2—0.4MPa
產水壓力： 產水壓力比濃水壓力高0.05-0.1Mpa，膜堆壓差取決于流量與溫度

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二、制水工藝（演示）：

三、設備圖片預覽：

四、超純水設備應用范圍
1.化妝品行業：
護膚品生產用純水、洗發水生產用純水、染發劑生產用純水、牙膏生產用純水 、洗手液生產用水。

2.食品、飲料、純凈水行業：
食品生產用水和飲料生產用水以及純凈水的生產

3.電子工業：
鋁箔清洗；電子管噴涂配液；顯相管玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗。
液晶屏屏面清洗和配液：晶體管和集成電路的硅片清洗用水、配制水。

4.電池行業：
蓄電池生產用純水、鋰電池生產用純水、太陽能電池生產用純水。

5.混凝土外加劑配制用純水：
玻璃鍍膜用高純水、玻璃制品清洗用水、燈具清洗用水。

6.紡織印染工業：
印染助劑配制用純水、濕巾用純水、面膜用純水。

7.超聲清洗用純水

8.涂裝行業：
涂料配制用純水、電鍍配制清洗水、電泳漆配制清洗純水。

五、不同出水品質的工藝和材質選項

六、操作系統顯示界面（下為演示界面）：