SUSS MicroOptics通過使用反應離子刻蝕（RIE）將所需的結構轉移到基板上，從而在硅片和熔融二氧化硅中以晶圓級制造定制的單片微光學器件。該技術可提供高分辨率和均勻性，并能夠合并復雜的形式，例如溝槽，空腔，基座，對準點和識別標記。組件可以鍍AR和/或金屬化，并以多種格式交付。