全光纖PM方案可實現24/7操作
520-2200 nm全光譜覆蓋
完整的單源頻率梳系統
節拍檢測單元（可選）
靈活的自定義（例如DFG）
EFO-COMB是一款高精度光學頻率合成器，設計用于多種研究和工業應用，例如原子激光冷卻，超高精度長度測量，光學時鐘，激光雷達，天文學，超穩定微波發生器，頻率參考信號的光學傳輸。光學合成器單元是一個交鑰匙設備，包括摻鐿鎖模光纖激光器，具有穩定的脈沖重復頻率frep和載波包絡偏移fceo。梳狀發生器單元可以設計為參考RF參考源（在1 s時提供5 * 10 ^ -13的傳輸穩定性），以及參考光學系統（在1s時低至~1 * 10 ^ -16）1秒）。該系統具有一個內置的超連續譜發生器和一個f-2f干涉儀，用于穩定光纖。標準單元具有4個1560 nm左右的低功率光纖耦合輸出，可用于各種應用和各種可選功能的連接。全PM光纖布局確保了交鑰匙的不間斷運行。一個單獨的控制機架包含PSU-CU單元，鎖相環（PLL）單元，數據收集和指示系統。
梳齒間距（Frep）：100 MHz
連接到射頻參考的穩定性：<5·10 ^ -13在1 s或與參考相同
與光學參考連接的穩定性：<1·10 ^ -16 at 1 s或與參考相同
梳齒間距的調諧范圍：> 0.7 MHz
偏移頻率Fceo的調諧范圍：> 100 MHz
光學輸出：2個或4個光纖耦合輸出端口或準直的自由空間輸出，分別在1560 nm，520-1000 nm，1000-2200 nm，其他波長要求（可選）
中心波長（固定）：1560±10 nm
全光譜覆蓋（帶有其他選項）：520-1000 nm，1000-2200 nm，其他波長可根據要求提供
每個輸出的輸出功率：> 5 mW；
> 250 mW @ 1560 nm（可選）;
> 200 mW @ 1000-2200 nm（可選）;
> 80 mW @ 520-1000 nm（可選）
光學單元尺寸（長x寬x高）：356 x 492 x 110 mm
控制機架尺寸（寬x長）：640 x 553 mm（機架高度取決于確切的配置）
