產品介紹
QSG 750-II單基體或多基體模型非常適合要求盡可能低的檢測限、高的重現性和有關分析物的額外冶金信息的所有應用。應用范圍從鋼鐵廠或其他冶煉廠等初級生產商到金屬加工公司，再到研究機構和大學。
QSG 750-II 與 QSN 750-II主要區別在于數據記錄系統，該系統基于 OBLF 開發的 GISS 技術（Gated Integration of Single Sparks）。在尺寸相同的情況下，它還配備了久經考驗的硬件組件，例如溫度穩定的 750 毫米真空光學元件、具有可自由定義參數的門控數字源 (GDS) 技術以及獲得自清潔火花架。排氣過濾器可確保清除消耗的氬氣。所有關鍵設備部件的輕松可訪問性簡化了需要由用戶執行的服務任務。
性能特點
- 多矩陣應用
- 多達 64 個 PMT 元件通道
- GDS III 火花發生器
- 真空系統
- 自清潔火花架
- 適用于自動化系統
- 門控集成 (GISS)
- 包含分析 (GISS)
- 雙電極系統，可選 ULB
- 自動電極清潔作為選項
技術參數
- 光學
Paschen-Runge 安裝的光譜儀
羅蘭圓直徑 750 毫米
波長范圍 110-770 nm
光學元件和讀出電子元件的溫度穩定在 ± 0.1°C，具有長期穩定性
自動計算機控制型材
彗差校正狹縫
根據各自波長選擇的 PMT 類型
抗震性
- 電子
穩壓 PMT 高壓電源
每通道 23 位 AD 轉換
GISS 技術（單火花門控集成）
DSP處理器控制
連接光譜儀 PC 的 USB 接口
- 電源供應
230V; 50/60 Hz; 1,5 kVA
待機模式下 500 W
- 環境條件
工作溫度：10 – 40 ºC
產品尺寸
尺寸和重量
寬度：104 cm
高度：130 cm
深度：90 cm
重量：約 460 kg
產品參數
