產(chǎn)品簡介:
EVG IQ Aligner NT是IQ Aligner光刻工藝平臺的升級款,在對準精度、處理速度上都有較大提升,適用于大型生產(chǎn)線。
主要特點及參數(shù):
·支持12英寸(300mm)晶圓
·支持易碎、薄片及翹曲晶圓的處理。
·全自動頂部及底部對準:
頂部對準精度≤±0.25μm
底部對準精度≤±0.5μm
·支持Casettes, SMIF或FOUP上料
·可選配功能:
紅外對準(透射或反射)
產(chǎn)品簡介:
EVG IQ Aligner NT是IQ Aligner光刻工藝平臺的升級款,在對準精度、處理速度上都有較大提升,適用于大型生產(chǎn)線。
主要特點及參數(shù):
·支持12英寸(300mm)晶圓
·支持易碎、薄片及翹曲晶圓的處理。
·全自動頂部及底部對準:
頂部對準精度≤±0.25μm
底部對準精度≤±0.5μm
·支持Casettes, SMIF或FOUP上料
·可選配功能:
紅外對準(透射或反射)
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