產品簡介:
EVG 101是一款適合于研發的單腔晶圓涂膠顯影設備,可用于噴膠、旋涂和顯影,可在三維結構晶圓上完成光刻膠或聚合物的涂覆,并保持高均勻性。
主要特點及參數:
·可適用于12寸(300mm)晶圓
·手動裝片,自動噴涂/旋涂,自動清洗腔室內殘膠
·適用光刻膠范圍廣泛,粘度可達52000cp
·基片轉速:10000r/min
產品簡介:
EVG 101是一款適合于研發的單腔晶圓涂膠顯影設備,可用于噴膠、旋涂和顯影,可在三維結構晶圓上完成光刻膠或聚合物的涂覆,并保持高均勻性。
主要特點及參數:
·可適用于12寸(300mm)晶圓
·手動裝片,自動噴涂/旋涂,自動清洗腔室內殘膠
·適用光刻膠范圍廣泛,粘度可達52000cp
·基片轉速:10000r/min
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