alpha300 RA — 在一個系統中結合化學成分分析和納米尺度的結構成像
WITec 完善的alpha300 RA系統是市場上可以將拉曼與原子力高度集成的顯微鏡系統，并不斷設定拉曼-原子力顯微鏡聯用設備的技術標準。alpha300 RA 的設計理念，使得該聯用系統既保留alpha300 R系列強大的化學組分分析能力，同時加入納米級別表面形貌等特性的分析能力，為科研工作者能對樣品進行深度分析和了解。
alpha300 RA系統將拉曼和原子力，兩種互補的技術集成在一套系統中，通過一個操作軟件實現應用，而且兩種技術的性能不受聯用的影響，易于操作。拉曼和原子力顯微鏡使用不同的顯微鏡物鏡，只需要轉動物鏡塔輪，成像軟件即可實現兩種技術的圖像對比、疊加和分析。
alpha300 RA 還適用于TERS（高分辨率拉曼）AFM測量。
關鍵特性:
· 在一臺顯微鏡上涵蓋alpha300 R（拉曼）和alpha300 A（原子力）的所有功能
· 納米級表面分析（原子力）與原位化學組分成像（拉曼）結合
· 拉曼—原子力同時測量的
· 真正原位：不需要在測量過程中移動樣品
· 只需轉動物鏡即可實現兩種技術的切換
alpha300 RA應用實例:
多組分高分子混合物，包含了1:1:1比例的聚苯乙烯（PS），充油丁苯橡膠（SRB）和丙烯酸乙基己酯（EHA）的原位拉曼及原子力圖像
拉曼成像(左): 綠色:PS, 紅色:SRB，藍色:EHA
拉曼-原子力聯用顯微鏡對硅中的應力分析。 左圖：10μm×10μm的原子力表面拓撲結構和深度輪廓圖（底部）。
右圖：顯示硅中應力區域所對應的拉曼圖像。 級硅線（左）和用藍色（右）標記的橫截面上強度分布的共焦拉曼圖像。
Confocal Raman image of the 1st order Si line (left) and the intensity profile along the cross section marked in blue (right).
alpha300 RA性能指標 :
拉曼操作模式
· 拉曼光譜成像：每個樣品點都能獲取完整的拉曼光譜
· 2D和3D成像模式：平面（x-y方向）和深度掃描（z方向）
· 快速和慢速時間序列
· 單點拉曼光譜采集
· 光纖耦合的UHTS 系列光譜儀，專為弱光應用的拉曼光譜設計
· 共焦熒光顯微鏡
· 明場顯微鏡功能
原子力顯微鏡操作模式
· 接觸模式
· AC 模式（輕敲模式）
· 數字脈沖力模式 (DPFM)
· 抬高模式
· 磁力顯微鏡(MFM)
· 靜電力顯微鏡 (EFM)
· 相位成像
· 力曲線分析
· 微納操控及微納印刷
· 橫向力模式 (LFM)
· 化學力模式 (CFM)
· 電流傳感模式
· 其他可選
顯微鏡基本指標
· 研究級光學顯微鏡，6孔物鏡轉盤
· 視頻系統：CCD相機
· 高靈敏度b/w相機，可在傳輸過程中觀察樣品和AFM針尖
· LED明場科勒照明
· 電動XYZ樣品臺，25x25x20mm平移范圍
· 主動隔震平臺
拉曼可選/升級選項
· UV-VIS-NIR多種激光可選
· 多種光譜儀可選
· 超快拉曼成像(每秒1300個光譜) 可選
· 自動共聚焦拉曼成像 (25 x 25 mm2; 50 x 50 mm2可選)
· TrueSurface功能
· 自動聚焦功能
· 自動多區域多點測量
· 可升級落射熒光照明
WITec超高通光量UHTS光譜儀
· 各種波長優化的透射式光譜儀可選 (UV, VIS 或 NIR)，專為弱光拉曼光譜設計
· 光纖耦合，高達70%傳輸效率
· 優異的成像質量，光譜峰形對稱無畸變
操作電腦
· 操作簡便、儀器的高自動化控制及快速可靠的數據獲取源自WITec公司強大的軟件處理功能
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