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感應耦合等離子體刻蝕機（ICP）

參考價	￥10-￥280/臺

具體成交價以合同協議為準

公司名稱北京中科復華科技有限公司
品牌其他品牌
型號DISC-ICP-6
所在地北京市
廠商性質生產廠家
更新時間2024/4/9 9:53:25
訪問次數667

產品標簽:

感應耦合等離子刻蝕等離子刻蝕 ICP

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公司介紹主營產品

北京中科復華科技有限公司是一家致力于為半導體領域和微納米科學領域提供綜合性解決方案，為全國各大高校、科研院所及企事業單位提供的半導體設備儀器和微納米科學儀器，擁有一支經驗豐富、技術過硬的技術團隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務。未來公司將不斷和引進在微納米科學領域中起重要作用的新儀器和新產品，同時也與全國各所的大學、學院和科研院所建立了良好的合作關系，致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作，為中國的教育與科研事業在廣范圍、高層次上提供服務。

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電子束曝光系統，刻蝕設備，鍍膜設備，光刻機

產品簡介在線詢價

產地	國產

感應耦合等離子體刻蝕系統利用射頻天線，通過感應耦合方式在放電腔中產生高密度等離子體，同時刻蝕工作臺引入射頻偏壓，射頻偏壓作用下，等離子體中垂直向下對被刻蝕材料表面進行物理轟擊，并與材料表面發生化學反應，達到對樣品進行刻蝕的目的。

　　本系統具有ICP和RIE兩種刻蝕功能，既可以進行細線條(納米)加工，也可以進行高深寬比的體加工。可刻蝕的材料主要有SiO2、Si3N4、多晶硅、硅、SiC、GaN、

感應耦合等離子體刻蝕機（ICP）產品信息

應用方向：科研與教學

產品優勢：耐氯基強腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）

產品配置：

★樣片數量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蝕材料：包括并不限于GaN、GaAs、InP、Al、Cr、單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、Mo、聚合物等。

★刻蝕腔體：高真空系統

★Load-Lock：低真空系統或高真空系統。雙片裝，樣品自動運送。

★刻蝕不均勻性：±3%-±6%

★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）

★工作臺：可升降，包含水冷

★電源配置：上電射頻，下電偏壓，包含自動匹配