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環(huán)保APP正式上線

紫外光刻機

參考價 300000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱北京中科復華科技有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號URE-2000/1
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2024/4/9 9:38:32
  • 訪問次數(shù)384
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北京中科復華科技有限公司是一家致力于為半導體領域和微納米科學領域提供綜合性解決方案,為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導體設備儀器和微納米科學儀器,擁有一支經(jīng)驗豐富、技術過硬的技術團隊。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務。未來公司將不斷和引進在微納米科學領域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品,同時也與全國各所的大學、學院和科研院所建立了良好的合作關系,致力于把具有市場前景的科研成果推向市場。愿與中、外同仁廣泛合作, 為中國的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務。

電子束曝光系統(tǒng),刻蝕設備,鍍膜設備,光刻機
產(chǎn)地 國產(chǎn)
光刻機可廣泛用于MEMS和光電子,例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過特殊設計,方便處理各種非標準基片
紫外光刻機 產(chǎn)品信息

1. 技術參數(shù)

UV光源:進口LED模塊

曝光中心波長:365nm

光源平行性:2o

曝光分辨率:0.8um-1um

曝光能量密度:>35mW/cm2可調

照度不均勻性:≤2.5%(150mm范圍)

曝光面積:160mm*160mm

光源壽命:2萬小時

曝光設定:定時

曝光頭工作模式:曝光位對準位自動切換(前后移動)

套準精度:±0.8-1 um

可執(zhí)行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式,

間隙設定方式:數(shù)字設定曝光間隙,自動分離和消除間隙

樣片、掩模版相對移動范圍:X: ±5mm, Y: ±5mm, θ=±6o

掩模版找平方式:球氣浮自動找平

可支持掩模版尺寸: 3″×3″4″×4″5″×5″7″×7″ 各一件

標配承片臺  2英寸、3英寸、4英寸6英寸

標準配件可兼容樣片厚度:0.1-6mm,其他尺寸可定制

可設計工作厚度:50mm

雙目雙視場對準顯微鏡或者光學鏡頭+CCD+顯示器:可通過目鏡目視對準,也可通過CCD+顯示器對準,光學合像,光學倍數(shù)400倍,光學+電子放大800倍,物鏡三對:4倍、10倍、20倍,目鏡三對:10倍、16倍、20倍

雙物鏡可調距離范圍:30mm-120mm

顯微掃描范圍:Y:±40mm電動,數(shù)字設定)

 設備尺寸:≤700mm


15700106413
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