新的光學系統令 ECLIPSE 煥發新風采。
ECLIPSE 顯微鏡機身采用模塊化制造，可滿足多領域的工業應用，其中包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。
ECLIPSE LV 系列經過不斷的發展完善并配備了新的光學系統和功能，可根據觀察方法和目的選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。
用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射／透射組合照明模式以滿足任何應用需求。
1、經過改進的光學性能
以的高數值孔徑和長工作距離設計理念而著稱的尼康 CFI60 光學系統經過進一步改進，具有的長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。
2、與數碼相機集成
現可使用數碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內的顯微鏡信息，以及對顯微鏡進行電動操作，以更高效地進行觀察和圖像拍攝。
3、多種觀察方法
采用透射照明觀察時，用戶可借助各類附件采用多種方法觀察更多種類的標本。所有型號都具備明場、暗場、微分干涉、熒光、偏光和雙光束干涉測量觀察功能。此外，LV100DA 和LV100DA-U 還可提供透射型微分干涉、暗場、偏光和相襯觀察功能。
